Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS Poly #9226614 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS Poly ist ein trocken geflickter, vertikaler chemischer Dampfabscheidungsreaktor, der für die Abscheidung von polykristallinem Silizium und anderen Materialien entwickelt wurde. Die Centura DPS™ Poly-Plattform kombiniert vertikale und horizontale Verarbeitungsfunktionen mit einer kolbengetriebenen Rotationszeitsteuerung, um Nanosekunden- Control™ des vertikalen thermischen Abscheidungsprozesses zu liefern. Die Nanosekunde Control™ Ausrüstung ist in der Lage, die Substrattemperatur innerhalb eines Bereichs von 1 ° C zu steuern, um die Abscheidung von hochwertigen polykristallinen Siliziumfolien zu gewährleisten. Die vertikale Prozessgeometrie der Centura DPS™ Poly Plattform bietet zudem hervorragenden Zugang zur manuellen Reinigung und Wartung. Die vielseitige Centura DPS™ Poly Plattform zeichnet sich durch einen geringen Platzbedarf und geringen Verbrauch aus und ist somit ideal für die Halbleiterherstellung geeignet. Die Centura DPS™ Poly-Plattform ist zudem in der Lage, mit einem fortschrittlichen Prozessautomatisierungssystem zu arbeiten und in automatisierte Werkzeugflüsse zu integrieren. Die Plattform nutzt eine einzigartige Dual-Source-Einheit, die gleichmäßige Verteilung von Reaktantgasen und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit über Substrate und Wafergrößen bietet, was zu hochwertigen Filmen mit einem hohen Substratdurchsatz führt. Die Centura DPS™ Poly wird gründlich getestet, um sicherzustellen, dass alle Komponenten und Systeme korrekt arbeiten und den hohen Standards der Branche entsprechen. Jede Maschine durchläuft einen strengen Kalibrier- und Validierungsprozess, um eine optimale Verarbeitungsfähigkeit zu gewährleisten. Das Tool kann mit einem INOVA- Module™ ausgestattet werden, um zusätzliche Steuerungs- und Überwachungsfunktionen bereitzustellen, wodurch der Bedarf an Modulaustausch verringert und die Betriebsbereitschaft erhöht wird. Abschließend ist AMAT Centura DPS™ Poly eine ausgezeichnete Wahl für die Abscheidung hochwertiger polykristalliner Folien. Die vertikale Prozessgeometrie und Nanosekunden- Control™ ermöglichen eine hervorragende Prozessstabilität und einen hervorragenden Zugang zur Reinigung und Wartung. Das Modell verfügt zudem über einen geringen Platzbedarf und einen geringen Gebrauchsverbrauch, was es zu einer guten Wahl für Halbleiterherstellungseinrichtungen mit begrenztem Platzbedarf macht. Die Dual-Source-Ausrüstung sorgt für gleichmäßige Reaktantgasverteilung und verbessert die Gleichmäßigkeit der Folien und die Durchsatzraten.