Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188288 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 ist ein hochwertiger Produktionsreaktor für Halbleiteranwendungen. Diese Ausrüstung wird verwendet, um verschiedene Materialien in einer Vakuumumgebung zu ätzen und abzulegen. Die hohen Temperaturfähigkeiten dieses Reaktors tragen zur Verbesserung der Ergebnisqualität bei. Der Reaktor ist mit mehreren Technologien ausgestattet, die ihn älteren Modellen überlegen machen. Dazu gehören zahlreiche Plasmaquellen, eine automatisierte atmosphärische Druckreaktionskammer mit integrierten Duschköpfen und ein Ionenbombardierer. Mit diesen Funktionen ist AMAT Centura DPS R1 in der Lage, Materialschichten auf Wafern mit hoher Schrittabdeckung und Gleichmäßigkeit abzuscheiden. Die Reaktionskammer des Reaktors kann Temperaturen von bis zu 1000 Grad Celsius erreichen. Dies ermöglicht die Herstellung von Metallen und anderen Materialien mit hohem Reflow und ausgezeichneten Hafteigenschaften. Die Plasmaquellen werden sorgfältig abgestimmt, um die erforderlichen Leistungsstufen zu erzeugen, um die Abscheidungsrate und Schichtgleichförmigkeit zu optimieren. Der Ionenbeschuss wurde entwickelt, um die Materialqualität und Prozesswiederholbarkeit weiter zu verbessern, indem eine genaue Kontrolle der Bedingungen im Reaktionsraum gewährleistet ist. Neben den einzigartigen Eigenschaften ist der Reaktor auch mit Sicherheitsfunktionen ausgestattet, die Ausrüstung und Personal schützen. Dazu gehören eine programmierbare Druckgrenze, automatisierte Türschlösser und eine integrierte Stromabschaltung. Die Konstruktion umfasst ein System aus N2-Wäschern und Vakuumpumpen, die sicherstellen, dass alle flüchtigen Partikel und Materialschutt sicher enthalten und aus dem Arbeitsraum entfernt werden. Angewandte Materialien Centura DPS R1 Reaktor bietet eine ausgezeichnete Plattform für die Herstellung von hochwertigen Materialien zu einem Bruchteil der Zeit und Kosten durch automatisierte Prozesse. Der Einsatz des Centura DPS R1 Systems wird dringend empfohlen, da es eine zuverlässige, kostengünstige und sichere Lösung für halbleiterbasierte Ätz- und Abscheidungsprozesse bietet.