Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188290 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 ist ein Reaktor zur Herstellung von Halbleitern der nächsten Generation, der für die Entwicklung und Herstellung von Geräten entwickelt wurde. Der DPS R1 ist ein fortschrittlicher Hochdurchsatzreaktor, der sowohl Abscheide- als auch Ätzprozesse in einer integrierten Ausrüstung durchführt. Der Reaktor kombiniert hochwirksame und zuverlässige Prozesssteuerung mit einer breiten Palette zuverlässiger Prozessmodule, um maximale Prozessflexibilität zu ermöglichen. AMAT Centura DPS R1 ist ideal für fortschrittliche Entwicklungsprozessoptimierung, Geräteentwicklung und Fertigung. Das System nutzt integrierte Process Module Pods (PMPs), um eine Vielzahl von Verarbeitungsoptionen und Flexibilität zu ermöglichen. Unter Verwendung der PMPs kann der Reaktor sowohl Abscheide- als auch Ätzprozesse in einer integrierten Einheit durchführen. Der Reaktor ist auch in der Lage, eine breite Palette von Abscheide- und Ätzanwendungen durchzuführen, darunter eine breite Palette von Materialien (Si, Ge, SiGe, GaAs, III-V, Nitride, Poly-Si und Silizium-Nitrid). ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS R1 wurde entwickelt, um Hochgeschwindigkeitsleistung in kürzester Zykluszeit zu liefern und gleichzeitig höchste Gleichmäßigkeit und Konformität zu ermöglichen. Der Reaktor nutzt auch eine patentierte Wafer-to-Chillplate-Temperaturregelung, die eine schnelle, gleichmäßige Erwärmung/Kühlung der Wafer ermöglicht. Diese einzigartige Funktion sorgt für eine schnelle, konsistente Reaktionszeit und verhindert Ungleichmäßigkeit bei Abscheide- und Ätzprozessen. Centura DPS R1 ist in der Lage, eine breite Palette von Quellgasen zu verwenden, einschließlich H2, Ar, Cl2, NF3, O2 und XeF2. Diese Flexibilität ermöglicht es dem Reaktor, verschiedene Abscheide- und Ätzprozesse sowohl für Front- als auch Rückseitenprozesse in verschiedenen Materialsystemen durchzuführen. Darüber hinaus bietet die Maschine Flexibilität in Werkzeugkonfigurationen, einschließlich Ein- oder Dual-Source-Waferbearbeitung und Einzelfeld- oder Großraum-Bildverarbeitungssysteme. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 ist die perfekte Bereicherung für fortschrittliche Geräteentwicklung und Halbleiterproduktion. Es ist sehr zuverlässig, schnell und flexibel und liefert hervorragende Ergebnisse. Der Reaktor verwendet hochentwickelte Prozesssteuerung und effiziente Prozessmodule kombiniert, um einen sehr stabilen, optimierten Prozess zu bieten. Das Modell bietet zusätzliche OPC- und EBR-Optionen zur Feinabstimmung Ihrer Prozessparameter und zur Gewährleistung einer optimalen Geräteleistung.