Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9188605 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 Reaktor ist eine fortschrittliche Abscheidung Ausrüstung entworfen und entwickelt für die Halbleiterindustrie. AMAT Centura DPS R1 Reaktor ist in der Lage, ultradünne Schichten von Verbindungen und Nitriden für mikroelektronische Anwendungen herzustellen. Die fortschrittlichen Systemkomponenten tragen dazu bei, die Effizienz und Prozesssicherheit zu maximieren und gleichzeitig die Prozesskosten zu minimieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura DPS R1 Reaktor besteht aus mehreren Komponenten wie dem Substratheizmodul, einer Plattform und mehreren Quarzrohren mit Quarzabdeckungen. Die Kombination von Komponenten ermöglicht der Einheit eine ausgewogene Umgebung, um eine Vielzahl von Materialabscheidungsprozessen unterzubringen. Die Plattform ermöglicht es, die Werkzeuge je nach Prozesskonfiguration linear oder radial auszubilden. Das Substratheizmodul trägt dazu bei, eine gleichmäßige Temperatur über die Oberfläche des Substrats zu gewährleisten und gleichzeitig die Unterschiede zwischen dem Substrat und den Quarzrohren zu minimieren. Die Quarzröhren sind mit digitalen Druckreglern und HF-Stromversorgungen ausgestattet, um eine gleichmäßige, präzise und zuverlässige Abscheidungsdicke zu gewährleisten. Der Centura DPS R1 Reaktor wurde entwickelt, um eine schnelle, genaue und konsistente Temperaturregelung zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein modernes Thermoelement-Erkennungswerkzeug, das einen verbesserten Schutz vor thermischem Schock bietet. Diese Anlage verwendet einen Mehrzonen-Temperatursensor zur präzisen Steuerung, einen aktiven Spannmechanismus mit eingebauter Dämpfung und ein schnelles Zyklusfreigabemodell. Die Temperaturerfassung sorgt auch großflächig für eine gleichmäßige Abscheiderate und ermöglicht schnellere Temperaturrampen- und Abklinggeschwindigkeiten. Das Gerät ist mit einem sehr zuverlässigen Vakuum- und Filtersystem ausgestattet, das es ermöglicht, eine perfekt saubere und staubfreie Umgebung zu erzeugen, um eine Partikelverunreinigung zu verhindern. Dies wird durch mehrstufiges Filtrieren, aktives Spülen und Kryopumpen ermöglicht. Das Gerät verfügt auch über eine hohe Zuverlässigkeit Low-Flow-Massendurchflussregler (MFCs), um eine präzise Gaszufuhr aus einer konformen Quelle mit minimaler Dispersion zu erleichtern. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 Reaktor ist ideal für eine breite Palette von Anwendungen wie Beschichtung, Nitrierung, Oxidabscheidung, Diffusionen, CVD-Prozesse und stromlose Beschichtung. Die Maschine ist hochflexibel und kann zur Herstellung von ULK, Metallisierungsschichten, Ätzstoppschichten, Intermetall-Dielektrika und anderen ähnlichen Anwendungen verwendet werden. AMAT Centura DPS R1 bietet auch innovative und optimierte Prozessrezepte mit fortschrittlichen Funktionen der kinetischen Prozesssteuerung.