Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 #9189045 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERALS AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS R1 ist ein Spitzenreaktor für plasmaverbesserte Abscheidungsprozesstechnologien. Der DPS R1 ist zur Abscheidung von Dielektrikum-, Isolator- und Barriereschichten für die Herstellung von Halbleiterbauelementen ausgelegt. Der Reaktor ist eine optimale Lösung, um die Ausbeute und Leistung der Geräte zu maximieren und gleichzeitig die höchsten Prozessanforderungen zu erfüllen. Das DPS R1 verfügt über eine Quelle für Niedertemperaturplasma (LTPTM), wodurch temperaturempfindliche Prozesse mit verbesserter Prozessstabilität und -durchsatz durchgeführt werden können. Es verfügt auch über eine refraktäre Metallionen-Injektionsoption (RMIIO), die hilft, eine gleichmäßige Plasma-Ionen-Spezies-Verteilung beizubehalten, die zur fehlerfreien Abscheidung beiträgt. Der DPS R1 hat ein Offenrohr-Design, das eine effiziente Abgabe und Gleichmäßigkeit der reaktiven Plasmaspezies an die Waferoberfläche ermöglicht. Die automatisierte Fernplasmaquelle (RPS) erleichtert die Einstellung der Betriebsparameter des Reaktors und die SmartPlasmaTM Steuerungstechnologie sorgt für schnelle und wiederholbare Anpassungen. Das Advanced Edge-Exclusion System (AES) des Reaktors verhindert Waferkanteneffekte und sorgt für Gleichmäßigkeit während des gesamten Abscheidungsprozesses. Der Closed-Loop Pulse Power™ (CLPP) bietet eine einfache Leistungssteuerung und stabile Plasmaparameter zur Einhaltung der gewünschten Zielvorgaben. Die Multi-Zone Magnetic Substrate Control (MMSC) hilft bei der Reduzierung von Off-Axis-Schatteneffekten und sorgt für eine präzise Positionierung von Substraten auf dem Waferfutter. Der DPS R1 bietet auch eine Reihe von modularen Optionen wie eine Hilfselektrode zur Erweiterung der Plasmabedeckung und ein Advanced Substrate-Movement Mechanical System (ASMS) zur präzisen Sweep-Steuerung. Der Reaktor verfügt zudem über eine energiesparende ATC-Auslassmöglichkeit und ein mehrzoniges elektrostatisches Futter mit robustem Thermomanagement für Substrate bis 8 "Durchmesser. Der DPS R1 sorgt für eine präzise Steuerung von Kammerparametern, Plasmasorten und Leistungsstufen. Darüber hinaus ermöglicht dieser fortschrittliche Reaktor aufgrund seines umfassenden Designs einen hohen Durchsatz und geringere Betriebskosten. Es eignet sich für Temperaturen und Prozesse von unter 600 ° C bis über 800 ° C und eignet sich gut für verschiedene Anwendungen wie die Abscheidung von dielektrischen Speicherschichten, Hochleistungssperrmaterialien, dielektrischen Schichten niedriger K-Werte und mehr.