Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #293608987 zu verkaufen
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ID: 293608987
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2012
Etchers, 8"
Centura-II, 6"
(3) Poly chambers
Controller rack
Missing parts:
MF
AC Racks
Generator
Controller
2012 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + ist ein Single-Wafer Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor, der zur Durchführung von Dünnschichtabscheidungsprozessen für die Produktion fortschrittlicher Geräte wie MEMS und anderen mikroskalen- und nanoskaligen Materialien entwickelt wurde. Es besteht aus vier Hauptkomponenten: einer Verarbeitungskammer, einer Gasfördereinrichtung, einem Vakuumsystem und einer Steuereinheit. Die Bearbeitungskammer ist zentraler Bestandteil von AMAT Centura DPS + und besteht aus Edelstahl, Aluminiumlegierungen und keramischen Komponenten. Es umfasst einen Gaseinlass, einen Abgasanschluss, eine Waferstufe und mehrere Quarzsichtanschlüsse zur Prozessüberwachung. Die Waferstufe dient der Unterstützung des Wafers während der Verarbeitung und verfügt über Positionierer mit stickstoffgespülten Systemen, um Verschmutzungen zu reduzieren. Die Gasfördermaschine liefert die notwendigen Reaktivgase in die Verarbeitungskammer und besteht aus Verteilerblöcken, Druckfiltern, Massenstromreglern und einem temperaturgesteuerten Werkzeug. Die Vakuumanlage ist für die Evakuierung der Bearbeitungskammer verantwortlich und besteht aus einer Schrupppumpe und einer mechanischen Drehflügelpumpe. Das Regelungsmodell ermöglicht eine präzise Steuerung aller Prozessparameter, einschließlich Temperatur, Gasdurchfluss, Reaktordruck und Wafertemperatur. Es enthält auch eine Datenerfassungseinrichtung für die Überwachung und Aufzeichnung von Prozessdaten im Laufe der Zeit. Das System ist vollständig automatisiert und ermöglicht eine schnelle Einrichtung, Produktimplementierung und Prozessüberwachung. In Summe ist APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + ein zuverlässiges und robustes CVD-Werkzeug mit einem Wafer, das die Produktion fortschrittlicher Geräte mit gleichbleibend hochwertigen Ergebnissen ermöglicht. Das Gerät ermöglicht eine präzise Steuerung der wesentlichen Prozessparameter und seine Regelmaschine sorgt für eine hohe Prozessstabilität und Wiederholbarkeit.
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