Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #293615303 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + Reaktor ist ein Hochdurchsatz Multi-Prozess-Ausrüstung entwickelt, um eine Vielzahl von High-Yield Integrated Circuit (IC) Prozesse zu unterstützen. Dieses System bietet eine Kombination aus Geschwindigkeit, Präzision, Anpassungsfähigkeit und Zuverlässigkeit sowie die Möglichkeit, eine Vielzahl komplexer Halbleiterprozesse kostengünstig zu integrieren. Der AMAT Centura DPS + Reaktor verwendet einen ausgeklügelten, maßgeschneiderten Wafer-Handhabungsmechanismus, mit dem Wafer in einem einzigen Lauf vollständig in mehrere Prozesse integriert werden können. Diese schnelle, effiziente Einheit bietet den höchsten Durchsatz in der Branche und ist in der Lage, bis zu 210 Wafer pro Stunde gleichzeitig zu verarbeiten. Dies liefert maximale Produktivität und minimiert die Durchlaufzeiten für Kunden. Der Reaktor verwendet fortschrittliche Temperaturregelungstechnologie, um einheitliche Verarbeitungsparameter für jede Charge aufrechtzuerhalten. Dadurch wird sichergestellt, dass das Verfahren optisch klare, fehlerfreie Wafer erzeugt. Darüber hinaus ermöglicht diese Technologie auch hochgenaue und wiederholbare Temperaturprofile. Dadurch wird sichergestellt, dass die Qualität der von der Maschine hergestellten Wafer konstant hoch ist. Darüber hinaus hat APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + Reaktor auch adaptive Prozesssteuerungsfunktionen. Das bedeutet, dass jeder Prozess innerhalb der Werkzeugparameter entsprechend den spezifischen Bedürfnissen und Anforderungen optimiert werden kann. Damit können sowohl einfache als auch komplexe Prozesse mit einem einzigen Asset durchgeführt werden. Darüber hinaus verfügt das Modell über mehrere Prozessoptionen und eine automatisierte Prozesssteuerung, so dass kostengünstige Fertigungspläne für die Hochleistungsfertigung aufgestellt werden können. Insgesamt ist AMAT CENTURA DPS + Reactor eine leistungsstarke Hochdurchsatzausrüstung, mit der komplexe Halbleiterprozesse effizient und kostengünstig verarbeitet werden können. Der integrierte Wafer-Handhabungsmechanismus des Systems, die fortschrittliche Temperaturregelungstechnologie und die adaptive Prozesssteuerung ermöglichen es, hervorragende Ergebnisse bei einem sehr hohen Durchsatz zu erzielen. Dies macht den APPLIED MATERIALS Centura DPS + Reaktor zusammen mit seiner einfachen Wartung zu einer äußerst zuverlässigen und kostengünstigen Lösung für die Produktion von großvolumigen Halbleitern.