Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9093676 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + Reaktor ist eine langlebige, vollautomatische und vielseitige Verarbeitungsanlage für Front- und Back-End-Prozesse in der Halbleiterherstellung. Das System wurde entwickelt, um optimale Prozessergebnisse für Wafer-Epitaxie, Ionenimplantation, Metall-CVD und ALD-Prozesse zu liefern. Der Reaktor besteht aus fünf primären Teilsystemen - Arbeitsplatz, Verarbeitungskammer, Regler, Abgasanlage und Heizelement. Der Arbeitsplatz ist so konzipiert, dass er die notwendige Beleuchtung, Bewegung und Ausrichtung für den Roboterarm der Einheit sowie Genauigkeit beim Be- und Entladen von Wafern gewährleistet. Die Bearbeitungskammer selbst besteht aus einer Vakuumkammer und kann auf Drücke bis zu 0,06 Torr evakuiert werden, was eine reine und teilchenfreie Umgebung zur Abscheidung, Implantation und anderen Prozessen bietet. Das Innere der Kammer ist auch so ausgelegt, dass ein Aufbau von Folien, Partikeln und anderem Material verhindert wird, während ein Wärmetauscher eine gleichmäßige Prozesstemperatur beibehält. Der Controller des DPS + ist für die Ausführung der Befehle aus einem angewandten Rezept sowie für die erforderlichen Anpassungen und Entscheidungen zur Optimierung der Prozessergebnisse verantwortlich. Die Oberfläche ist benutzerfreundlich und ermöglicht sowohl manuelle Anpassung als auch Automatisierung. Das Abgasplenum der Maschine ist für das Sammeln von Prozessumgehungsprodukten und die Minimierung der thermischen Belastung innerhalb der Kammer verantwortlich. Schließlich ist das Heizelement des Reaktors einstellbar und kann auf einen weiten Temperaturbereich eingestellt werden, wodurch eine weitere Vielseitigkeit gegeben ist. Zusammen wurde AMAT Centura DPS + entwickelt, um optimale Verarbeitungsergebnisse in der Halbleiterherstellung zu erzielen und gleichzeitig voll automatisiert und effizient zu sein. Die Flexibilität des Werkzeugs ermöglicht auch die Verarbeitung unterschiedlichster Materialien, von Materialien der Gruppe IV bis zu Verbundwerkstoffen der Gruppe III-V. Die Vielseitigkeit des Reaktors macht ihn auch zu einer idealen Wahl für Front-End-Anwendungen wie Epitaxie und Ionenimplantation sowie für Back-End-Anwendungen wie Metal CVD und ALD.