Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233293 zu verkaufen
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ID: 9233293
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Poly etcher, 8"
Mainframe: Centura Phase2
Chamber A, B & C:
DTCU: ES-DTCU
Gate & throttle valve: TGV, VAT
EDWARDS STP-A2203 Turbo pump
Pumping tube: Heated
ADVANCED ENERGY Altas 2012 Generator (Source)
ENI ACG-6B Generator (Bias)
ESC: Ceramic
EPD: IEP
Chamber F: Orieter
Xfer: HP Robot
L/L: Narrow, heated, tilt-out
Hoist: Local hoist
Gas panel:
Chamber A & C:
Gas / Size / Model
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 200sccm / 8160
Cl2 / 50sccm / 8160
SF6 / 50sccm / 8160
N2 / 20sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CF4 / 100sccm / 8161
He / 20sccm / 8160
O2 / 100sccm / 8161C
Chamber B:
Gas / Size / Model
HBr / 200sccm / 8160
Cl2 / 200sccm / 8161C
Cl2 / 50sccm / 8160
SF6 / 50sccm / 8160
N2 / 20sccm / 8160
Ar / 200sccm / 8160
CF4 / 100sccm / 8161C
He / 20sccm / 8160
O2 / 100sccm / 8161C
Missing parts: Process chamber chiller & hose
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + ist ein hochmoderner Reaktor zur Durchführung verschiedener Halbleiterherstellungsverfahren. Es ist eine dielektrische Abscheidungsprodukt-Suite, die schnelle und genaue Abscheidung von dielektrischen Filmen für eine breite Palette von Halbleiterbauelementanwendungen bietet. Das Gerät ist in der Lage, passivierte Schichten auf einer Vielzahl von Substraten wie Silizium, Quarz, Glas, Polyimid und anderen Oberflächen herzustellen. AMAT Centura DPS + hat eine maximale Feldgröße von 25 Quadratzoll, mit einer minimalen Dosierfähigkeit von 1-Microamp. Seine Reaktoreigenschaft eine Vier-Quadranten-Drehung stottert Konfiguration, die einheitliche Verarbeitung aller Substrate sichert. Das System ist auch mit einer Hochgeschwindigkeits-Sputterquelle ausgestattet, die eine Übernahmegeschwindigkeit von bis zu 1 nm/s erreichen kann. Dies hilft, dem Gerät hohe Durchsatzkapazitäten zu verleihen. Die Maschine verfügt auch über eine fortschrittliche thermische Steuerung zur Erzielung einer präzisen Temperaturregelung für Abscheideprozesse, was zu einem gleichmäßigeren und konsistenteren Ergebnis führt. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA DPS + verfügt außerdem über eine Reihe von chemischen Reinigungs- und Vorreinigungsfunktionen, die eine effiziente Waferbearbeitung ermöglichen. Es kommt auch mit einem Touchscreen-Monitor, der eine Echtzeit-Überwachung verschiedener Parameter während des Verarbeitungszyklus ermöglicht. Das Tool entspricht verschiedenen Protokollstandards wie UNI-Core, SEMI und GCR. Es verfügt auch über eine ISO-9002 Zertifizierung und arbeitet in einer Klasse II Reinraum Klasse, um konsistente und zuverlässige Ergebnisse in sehr Verarbeitungszyklus zu gewährleisten. Die Centura ist mit einem robusten, hochkorrosionsbeständigen Edelstahlrahmen konstruiert, der eine lange Lebensdauer des zuverlässigen Betriebs in der rauesten Umgebung gewährleistet. Insgesamt ist CENTURA DPS + ein robuster und zuverlässiger Reaktor, der einen hohen Durchsatz und eine präzise Kontrolle über eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen bietet. Es eignet sich sowohl für Forschung als auch für industrielle Anwendungen und bietet eine präzise Temperatur- und Chemikalienkontrolle über den Prozess. Mit seinen beeindruckenden Spezifikationen ist die Centura eines der besten Werkzeuge für hochwertige und zuverlässige Geräte.
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