Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9233299 zu verkaufen

AMAT (APPLIED MATERIALS/APPLIED) MATERIALS AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + Reaktor ist ein branchenführender, mittelgroßer PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) Reaktor, der zur Diffusion und Abscheidung von dünnen Schichten verwendet wird. Es ist ein skalierbares und in sich geschlossenes Werkzeug zur Abscheidung von Halbleiterfilmen, Metallen, Folien und anderen Materialien. AMAT Centura DPS + ist einzigartig in seiner Fähigkeit, eine Reihe von benutzerfreundlichen Active-Gas- und Wafer-Ladekonfigurationen bereitzustellen. Das Aktivgasmodul ermöglicht die Auswahl und Verwendung eines größeren Satzes von Gasen bei einem gegebenen Druck, wodurch ein effizienterer und kontrollierter Abscheidungsprozess ermöglicht wird. Zusätzlich ermöglichen manuelle/automatische Lademöglichkeiten bei Bedarf das Umschalten zwischen verschiedenen Wafergrößen. Diese Kombination von Funktionen ermöglicht es Benutzern, ihren Prozess schnell an spezifische Konstruktionsanforderungen anzupassen und anzupassen. ANWENDUNGSMATERIALIEN CENTURA DPS + Reaktor verfügt auch über eine leistungsstarke Hybrid-Cluster-Quelle für die Erzeugung von Plasma. Diese Quelle ist in der Lage, hochdichtes, monoton polarisiertes Plasma zu erzeugen, das den engen Temperatur-, Druck- und HF-Leistungsanforderungen von PECVD-Prozessen entspricht. Diese Hybrid-Cluster-Quelle nutzt eine selbstkonsistente mathematische Technik, um Plasma zu erzeugen, das die Flashover-Wahrscheinlichkeit minimiert und eine gleichmäßige Abdeckung des Zielsubstrats gewährleistet. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS + verfügt auch über eine anspruchsvolle Diagnosesuite, die eine genaue Überwachung aller kritischen Prozessparameter ermöglicht. Diese Suite von Diagnosen kann verwendet werden, um zu bestätigen, dass alle Prozessparameter innerhalb der Spezifikationen liegen und dass der Ablagerungsprozess ordnungsgemäß ausgeführt wird. Die Diagnosesuite umfasst HF-Pegel, Wafertemperatur, Abscheiderate, Quellleistung, Druck und Plasmaverteilungsmessungen. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + ist ein vielseitiger und einfach zu bedienender Reaktor, der eine zuverlässige und wiederholbare Prozesssteuerung ermöglicht. Es ermöglicht Anwendern die Auswahl, Anpassung und Kontrolle der Abscheidung von dünnen Filmen, Metallen und anderen Materialien. Die Kombination aus leistungsstarken Hybrid-Cluster-Quellen, benutzerfreundlichen Konfigurationen für Aktivgas und Wafer-Ladung und einer ausgeklügelten Diagnosesuite machen es ideal für eine konsistente und zuverlässige Prozesssteuerung über mehrere Chargen hinweg.