Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9249570 zu verkaufen

ID: 9249570
Metal etcher Load lock: Wide (2) Chambers DPS+ Metal (2) Chambers ASP+ Robot: VHP+.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + ist ein PECVD-Reaktor (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), der für die Herstellung von qualitativ hochwertigen Halbleiterbauelementen mit hoher Ausbeute entwickelt wurde. Das DPS + PECVD nutzt fortschrittliche Plasmatechnologie, um dünne Filme von SiN und SiO2 abzulegen, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen und anderer Mikrominiaturgeräte verwendet werden. Dieser PECVD-Reaktor eignet sich besonders gut zum Abscheiden konformer Dünnschichtschichten. Das DPS + nutzt eine Vakuumkammer mit Lastverschluss, die eine sichere wiederholbare Foliendicke und Konformität ermöglicht. Durch die Kombination aus magnetischer und gasbasierter Plasmaproduktion ermöglicht das DPS + eine hohe Effizienz, niedrige Kosten und Prozessstabilität mit dielektrischen und isolierenden Folien. Dies macht es besonders nützlich für Serienanwendungen. Das DPS + PECVD-System verfügt auch über zwei erweiterte Funktionen und Software speziell für die Geräteherstellung entwickelt. Die erste, Plasma Processing Isotopic Analysis (PPIA®), liefert Echtzeit-Prozessleistungsdaten. Dies ermöglicht eine schnelle und intuitive Prozessabstimmung, die eine zuverlässige Geräteherstellung ermöglicht. Das zweite Merkmal, Reactivity-Enhanced Formulation (REF), hilft, eine gleichmäßige Abscheidung von dünnen Filmen mit ausgezeichneter Schrittabdeckung zu ermöglichen. Das DPS + -System wird von fortschrittlicher Software unterstützt, die proprietäre Algorithmen und umsetzbare grafische Modelle verwendet, um eine kontinuierliche Optimierung und Wartung des Prozessflusses zu gewährleisten. Dies erleichtert dem Produktionspersonal die schnelle und reproduzierbare Herstellung von Halbleiterbauelementen mit verbesserter Gerätelebensdauer und -sicherheit auf kostengünstige Weise. Insgesamt bietet dieses hochleistungsfähige, kostengünstige PECVD-System fortschrittliche Dünnschichtabscheidungs- und Plasmabearbeitungsfähigkeiten, ideal für die Herstellung von Produkten mit hochwertigen Halbleiterbauelementen mit hoher Ausbeute. Es ist das perfekte Werkzeug für jede Halbleiterfirma oder Gießerei, die den Übergang zu einer großvolumigen Fertigung suchen.
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