Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9251499 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+
ID: 9251499
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Dry etchers, 8" 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + ist ein Hochleistungs-Plasmaätzprozessreaktor mit hoher Dichte, der eine extrem hohe Ätzeffizienz, einen hohen Durchsatz und einen verbesserten Prozessfluss bietet. AMAT Centura DPS + kombiniert bahnbrechende Ätztechnologien und bahnbrechende kostengünstige Verbrauchsmaterialien, um eine kostengünstige, konsistente und qualitativ hochwertige Ätzlösung für kleine und große Halbleiter- und MEMS-Geräteherstellungsanlagen zu bieten. Angewandte Materialien CENTURA DPS + verwendet eine Kombination von mehreren Ätztechnologien, einschließlich Dual Frequency High Density Plasma (HDP), isotropes Ätzen und Niederdruck-chemische Dampfabscheidung (LPCVD). Diese Kombination von Technologien ermöglicht verbesserte und wirtschaftliche Ätzprozesse in einer Vielzahl von Anwendungen wie Dünnschichtätzen, tiefen und flachen Grabenätzen, selektiver Geräteschichtisolierung, Verbindungsisolierung und Mehrschichtätzen. Die patentierte HDP-Technologie bietet die höchste verfügbare Ätzrate ohne „Unterschneidung“ oder Verzerrung der darunter liegenden Substratschicht. Die HDP-Technologie kann sowohl für isotropes Ätzen als auch für anisotropes Ätzen mit hohen Ätzraten für beide verwendet werden. Diese Ätztechnik eignet sich besonders zum Ätzen von ultradünnen, hochempfindlichen und/oder extrem konformen Schichten. Die integrierte Niederdruckchemische Dampfabscheidungstechnologie (LPCVD) kann sowohl selektive als auch einheitliche chemische Ätzprozesse liefern. Das einzigartige Echtzeit-Feedback-System des LPCVD-Prozesses sorgt für eine optimale Abscheidung in jeder Phase des Prozesses und bietet verbesserte Produktionsausbeuten und Geräteleistungen. Das LPCVD-Verfahren bietet auch eine Vielzahl von Raten, Selektivität und Stöchiometrie, so dass kundenspezifische Engineering-Materialien mit maßgeschneiderten Eigenschaften hergestellt werden können. Die Flexibilität der Plattform von AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + wird durch seine drei Betriebsarten weiter verbessert. Dazu gehören ein automatischer Produktionsmodus, ein halbautomatischer Auswahlmodus und ein manueller Expertenauswahlmodus. Die Drei-Modus-Einstellung ermöglicht Ätzern die Optimierung der Prozessbedingungen und Leistung für die jeweilige Anwendung oder Aufgabe. Durch US-Patente geschützt, bietet APPLIED MATERIALS Centura DPS + eine einzigartige Lösung für Plasmaätzanforderungen. Mit seiner Kombination aus fortschrittlichem Prozessablauf, mehreren Ätztechnologien und flexibler Plattform bietet CENTURA DPS + einen kostengünstigen, konsistenten und qualitativ hochwertigen Ätzprozess für eine Vielzahl von Anforderungen an die Geräteherstellung.
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