Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS+ #9251502 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + ist ein von AMAT entwickelter Halbleiterreaktor für fortschrittliche Verarbeitungsanwendungen. AMAT Centura DPS + ist ein fortschrittlicher Multi-Substrat-Diffusions- und Implantatreaktor, der die Möglichkeit bietet, durch eine schnelle sequentielle Substratübertragung schnell dotierte Filme auf mehreren Substraten in einem einzigen Prozesswerkzeug abzuscheiden und zu ätzen. Damit eignet sich die Ausrüstung ideal für den Einsatz von hochdichten ULSI-Komponenten (Ultra-Large-Scale Integration). Darüber hinaus unterstützt APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + Reaktor auch fortschrittliche Materialabscheidungstechniken, wie Niederdruck chemische Dampfabscheidung (LPCVD) sowie MOL (Metal Oxide Low Temperature) Prozesse. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS + Reaktor ist ein automatisiertes, vollautomatisiertes Mehrfachwafer-System, bestehend aus mehreren Modulen, die jeweils für bestimmte Verarbeitungsphasen ausgelegt sind. Dazu gehören das Purge/Gass Flow Modul, das Wafer-Transfer Modul, die Thermokammer, das Gas Delivery Modul, das Cold Wall Modul und das Hot Resource Modul. Das Spül-/Gasdurchflussmodul des CENTURA DPS + Reaktors gewährleistet zuverlässige und konsistente Gasströme durch automatische Steuerung und Aufrechterhaltung der Gasdurchflussraten, um spezifischen Anforderungen gerecht zu werden. Dieses Modul verwaltet und steuert auch die notwendige Elektronik und Mechanik, um die Reaktorkammer und ihre Prozesse richtig zu spülen. Das Wafer-Transfer Modul des AMAT CENTURA DPS + Reaktors ermöglicht eine effiziente und präzise Übertragung mehrerer Substrate in die Thermokammer. Dieses Modul ist äußerst wichtig für die Genauigkeit und Effizienz der AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + Einheit, da es den gesamten Produktionsprozess beschleunigt. Die Wärmekammer des Centura DPS + Reaktors ist aus 316L Edelstahl gefertigt und wurde entwickelt, um einen Temperaturbereich von bis zu 1200 Grad Celsius für erweiterte Verarbeitungsanforderungen zu liefern. Die kontrollierbare Temperatur ermöglicht es der Kammer, Bearbeitungsprofile auf verschiedene Substrate genau anzuwenden, was eine perfekte Genauigkeit und Präzision beim Abscheiden oder Ätzen von Materialien gewährleistet. Das Gasfördermodul von AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS + Reaktor ermöglicht die genaue und präzise Lieferung der von der Maschine benötigten Prozessgase. Dieses Modul ist auch für die Leitung, Steuerung und Steuerung der vom Reaktor benötigten Gasströme zuständig. Das Kaltwandmodul des AMAT Centura DPS + Reaktors ermöglicht die genaue und präzise Anwendung von Cryo-Cooling oder kryogener Kühlung auf dem Substrat, was eine extrem genaue und wiederholbare Temperaturregelung ermöglicht. Schließlich verwaltet und steuert der Hot Resource Modul von APPLIED MATERIALS CENTURA DPS + Reaktor wesentliche Ressourcen, wie Energie und Heizelemente, zur Thermischen Kammer für eine genaue und wiederholbare Verarbeitung. Darüber hinaus ermöglicht dieses Modul auch eine genaue automatische Anpassung der Temperatur an spezifische Anforderungen. Insgesamt ermöglichen diese Module es APPLIED MATERIALS Centura DPS + Reaktor, Materialien genau und präzise abzuscheiden und zu ätzen, was eine volumenstarke Herstellung von hochdichten, ultragroßen Integrationskomponenten (ULSI) ermöglicht. Die fortschrittliche Technologie von APPLIED MATERIALS sorgt für zuverlässige und wiederholbare Leistung und ermöglicht höchste Präzision in der Halbleiterindustrie.