Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9275464 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS ist ein Dual-Pocket Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor zur Abscheidung hochwertiger Filme auf Substraten. Es nutzt erweiterte Prozesskontrolle, um konsistente und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Das Gerät verwendet ein Dual-Pocket-Design, das es dem Anwender ermöglicht, zwei Wafer gleichzeitig und unabhängig nacheinander zu verarbeiten, was einen wesentlich höheren Durchsatz als herkömmliche Eintaschensysteme bietet. Die individuelle Verarbeitung der Wafer verbessert die Verarbeitungskonsistenz über beide Wafer hinweg und erhöht die allgemeine Gleichmäßigkeit innerhalb derselben Wafer-Charge. AMAT Centura DPS verfügt über zwei unabhängige 75mm Heißwand-CVD-Kammern und eine gemeinsame Quellmaterial-Be-/Entladekammer. Jede CVD-Kammer ist mit zwei 2kw Infrarotlampen, einem Pyrometer und einem integrierten Gaseinleitungsverteiler mit vier Gasleitungen ausgestattet. Die unabhängige Temperaturregelung jeder Lampe, die von einem Temperaturprogrammierer bereitgestellt wird, erzeugt in jeder Kammer einen Temperaturgradienten, der die Abscheidung von Filmen mit präziser Dicke und Gleichmäßigkeit über das Substrat ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS verfügt auch über einen Turbo-Dioxid-Generator, der eine einzige Quelle für ultrareine wasserfreie Wasserstoff- und Stickstoffgase bietet, um eine hochwertige Abscheidungsumgebung zu schaffen. Centura DPS wurde entwickelt, um zuverlässige, wiederholbare Ablagerungsergebnisse zu liefern, mit einer verbesserten Fähigkeit, Filme aus einer Vielzahl von Materialien von Aluminium bis Wolfram abzulegen. Durch die Kombination mehrerer Folienschichten und Behandlungen kann die Centura DPS neue Materialien, Beschichtungen und physikalische Eigenschaften für eine Vielzahl von Substraten realisieren. Das System ist in der Lage, einheitliche Oxid- und Nitridfilme auf atomarem Niveau zu produzieren, um eine genaue Kontrolle der chemischen und physikalischen Struktur des Substrats zu ermöglichen. Neben der Abscheidungssteuerung wurde AMAT Centura DPS auch zur Verbesserung der Benutzersicherheit entwickelt. Das integrierte Kantendetektionsmerkmal der Einheit in Verbindung mit dem Verriegelungskrümmer-Containment-Gerät beseitigt jegliche Gefahr der Exposition gegenüber toxischen Gasen. Darüber hinaus reduziert die Doppeltaschenkonstruktion die Gesamttemperatur der Reaktoren erheblich, was zu einer kühleren Umgebung und einer weiteren Reduzierung des Unfall- oder Expositionsrisikos führt. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS ist eine revolutionäre CVD-Maschine zur Herstellung hochwertiger Folien auf Substraten mit präziser Kontrolle und erhöhter Sicherheit. In Kombination mit seinen Dual-Pocket-Funktionen bietet Centura DPS eine Lösung mit hohem Durchsatz für eine breite Palette fortschrittlicher Materialanwendungen.