Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9301844 zu verkaufen
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ID: 9301844
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Etcher, 12"
PC: IBM 0090-04959 and 0090-04958 Server type
Mainframe: Centura AP
Chamber A: DPS Cerena (High temperature heater)
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 200
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 400
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 70
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 400
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber C: DPS G5
EDWARDS Turbo pump
Controller: SCV-1500
Gate valve: VAT
RF Generator: ADVANCED ENERGY Apex 1513
Dry pump missing
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
1 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 20
2 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
3 / UNIT INSTRUMENTS / CHF3 / 300
4 / UNIT INSTRUMENTS / He / 400
5 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
6 / UNIT INSTRUMENTS / Ar / 400
7 / UNIT INSTRUMENTS / BCl3 / 400
8 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 500
9 / UNIT INSTRUMENTS / NF3 / 300
10 / UNIT INSTRUMENTS / Cl2 / 200
11 / UNIT INSTRUMENTS / H2 / 200
12 / UNIT INSTRUMENTS / SiCl4 / 70
13 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
14 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
15 / UNIT INSTRUMENTS / CO / 100
16 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 100
17 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 200
18 / UNIT INSTRUMENTS / CH3F / 100
19 / UNIT INSTRUMENTS / SF6 / 100
20 / UNIT INSTRUMENTS / HBr / 300
21 / UNIT INSTRUMENTS / CH4 / 30
22 / UNIT INSTRUMENTS / CH2F2 / 100
23 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 200
24 / UNIT INSTRUMENTS / CF4 / 300
FPC / MKS / N2 / 1000
Chamber D: ASP (RF type)
RF Generator: ADVANCED ENERGY
KASHIYAMA MU-603X Dry pump
Gases:
MFC No / Make / Gases / SCCM
37 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
38 / UNIT INSTRUMENTS / N2 / 1000
40 / UNIT INSTRUMENTS / O2 / 10000
Missing parts:
Hard Disk Drive (HDD)
Dry pump
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS (Dynamic Process Equipment) Reaktoren ist ein Prozesssystem zur Herstellung mikroelektronischer Bauelemente wie Halbleiter, Speicherchips und Mikroprozessoren. Der Reaktor verwendet eine Reihe von industriellen Materialien, um eine in sich geschlossene Umgebung zu schaffen, in der das Ätzen, Abscheiden und Reinigen von mikroelektronischen Merkmalsschichten zuverlässig durchgeführt wird. Die DPS-Kammer verfügt über eine breite Palette von Funktionen und ist für eine einfache Konfiguration für bestimmte Projekte konzipiert und bietet hervorragende Wiederholbarkeit, Gleichmäßigkeit und Fehlertoleranz. In der AMAT Centura DPS-Einheit wird mit einer hocheffizienten, niedrig erzeugten Heizung eine Kammertemperatur von bis zu 250 ° C erzeugt. Die Temperatur ist wichtig für das Strippen von Resists und die Photolackreinigung. Die Heizung enthält einen Zwangskonventilator, um eine gleichmäßige Temperatur in der Kammer und eine einziehbare Duschdüse zu gewährleisten, um die Wärme gleichmäßig zu verteilen. Darüber hinaus beinhaltet die Heizung auch Wasserkühlfähigkeit, um thermisches Auslaufen zu verhindern. Zur Steuerung der Temperatur der Kammer und zur Vermeidung von Verunreinigungen wird eine proprietäre Prozesskammeraerosolfördermaschine eingesetzt. Das Aerosolförderwerkzeug trennt eintretende Luft in Feststoffe und Dämpfe und steuert dann die Temperatur und Feuchtigkeit der Kammer. Es verwendet auch ein Doppelfilterelement, um sicherzustellen, dass die einzigen Verunreinigungen, die in die Kammer gelangen, die für den Prozess notwendig sind. Das robuste Controller-Asset ist für eine einfache Bedienung ausgelegt, mit einem Einwählknopf zur Einstellung von Prozessparametern und Kammerbedingungen. Sie ist in der Lage, Parameter wie Druck, Temperatur und Feuchtigkeit in der Kammer sowie eine Reihe weiterer prozessspezifischer Parameter zu steuern. Die Flexibilität des Reglermodells macht es auch einfach, Rezepte für verschiedene Anwendungsbereiche und Prozessüberwachung während des Herstellungsprozesses anzupassen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS ist ein wichtiger Bestandteil des mikroelektronischen Herstellungsprozesses. Sie sorgt dafür, dass Ätz- und Abscheideprozesse präzise durchgeführt werden und bietet gleichzeitig eine Umgebung, in der Stripp- und Reinigungswiderstand sicher und effizient abgeschlossen werden kann. Das breite Leistungsspektrum, die Konfigurierbarkeit und die integrierte Steuerung machen Centura DPS zu einer ausgezeichneten Wahl für die Herstellung von Mikroelektronik.
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