Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9350294 zu verkaufen
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ID: 9350294
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Etchers, 12"
Hard Disk Drive (HDD)
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS ist eine hochmoderne Reaktorausrüstung, die entwickelt wurde, um zuverlässige, leistungsstarke, langfristige chemische Ätzlösungen zu liefern. Dieser dreikammerige CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition) ist für die Herstellung ultradünner Filme, dicker Filme, einheitlicher Filme und kontrollierter Filmdicke ausgelegt. Das AMAT Centura DPS-System bietet eine breite Palette von Plasmaätzfunktionen und unterstützt sowohl chemische Trockenätz- als auch plasmaverbesserte Ätzprozesse. Das Gerät ist zudem mit einer automatisierten Prozesssteuerungsmaschine zur präzisen Überwachung und wiederholbaren Prozessen ausgestattet. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS ist mit Hochleistungs-HF-Stromversorgungen und Plasmaanregungselektroden ausgestattet, die eine genaue Kontrolle des Ätzprozesses gewährleisten und Zuverlässigkeit und Gleichmäßigkeit gewährleisten. Der Reaktor ist zudem mit einem adaptiven Prozesssteuerungswerkzeug ausgestattet, das eine Prozessoptimierung durch rechnergesteuerte Prozessparameter ermöglicht. Dieses Asset verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der Benutzer Prozessparameter schnell einstellen und nach Bedarf anpassen können. Das Prozesssteuerungsmodell bietet auch eine Alarmmeldung, die alle Prozessabweichungen überwacht, so dass bei Bedarf Korrekturmaßnahmen ergriffen werden können. Centura DPS ist eine vielseitige Ausrüstung, da es für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden kann, einschließlich fortschrittlicher dielektrischer Ätzungen, anspruchsvoller Barriereschichtätzungen sowie hochfrequenter Kupferätzungen. Es ist auch für hohen Durchsatz und für den Einsatz mit mehreren Wafern gleichzeitig konzipiert, was Effizienz- und Produktivitätssteigerungen ermöglicht. Das Design des Reaktors ist für niedrige Betriebskosten optimiert, mit der Fähigkeit, die Prozessbedingungen on-the-fly und einfache Reinigung und Wartung anzupassen. Der Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Prozess ermöglicht in Verbindung mit der automatisierten Prozesssteuerung die Herstellung konformer Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit von Ätzprofilen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS ein zuverlässiges und vielseitiges CVD-Reaktorsystem, das Anwendern eine breite Palette an Plasmaätzfähigkeiten, hohen Durchsatz und automatisierte Prozesssteuerung bietet. Diese Reaktoreinheit ist in der Lage, präzise, reproduzierbare und gleichmäßige Ätzergebnisse zu erzielen, die auf eine Vielzahl von Ätzanwendungen angewendet werden können.
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