Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS #9398745 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS (Dynamic Process Equipment) ist ein Reaktor zur Bearbeitung von Wafern auf einer energieeffizienten und flexiblen Plattform, perfektioniert für die Herstellung optoelektronischer, mikroelektronischer und hybrider Materialien. Das System bietet einen hohen Durchsatz mit großen Clusterwerkzeugen und kann bis zu 28 Wafer gleichzeitig verarbeiten. Mit fortschrittlicher Steuerelektronik bietet AMAT Centura DPS wiederholbare, genaue und zuverlässige Leistung mit schnellen Zykluszeiten. Es kombiniert ein High-Aspekt, mehrere Reaktionskammern Design mit einzigartig positionierten Quarzwänden, die Gleichmäßigkeit in allen Abscheidungsbereichen und bietet überlegene Prozessgenauigkeit. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DPS bietet eine breite Palette von Prozessfähigkeiten und Parametern, so dass Kunden schnell und kostengünstig benötigte Ergebnisse erzielen können. Der Reaktor besteht aus einem niedermassigen, wärmearmen, hocheffizienten Verteiler, der Prozessgase liefert, sowie einem hocheffizienten Suszeptor-Design für eine präzise und wiederholbare Waferpositionierung. Das Gerät enthält Programmable Logic Controller (SPS) -Technologie für den automatisierten Betrieb, erweiterte grafische Benutzeroberfläche (GUI) für Benutzerfreundlichkeit und integrierte Rezept- und Trendspeicher für maximale Effizienz und Qualität. Centura DPS ist mit einer Vielzahl von Substratgrößen und Materialien kompatibel und bietet durch den Einsatz einer einheitlichen Temperaturregelung eine hervorragende Substratgleichförmigkeit. Die Maschine umfasst erweiterte Automatisierungs- und Steuerungsfunktionen, ein anpassbares Programm zur Keimbildung und Demontage sowie ein mehrschichtiges automatisiertes Wafer-Handling-Tool. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS einen schnellen Asset-Start und eine Wafer-verschmutzungsfreie Umgebung. Insgesamt ist AMAT Centura DPS ein sehr vielseitiges Modell, das sich gut für die Herstellung von hochleistungsfähigen optoelektronischen, mikroelektronischen und hybriden Materialien eignet. Das Gerät verfügt über hervorragende Wiederholbarkeit, Genauigkeit und Wafer-zu-Wafer-Gleichmäßigkeit und ist somit ideal für Präzisionsanwendungen geeignet. Dieser fortschrittliche Prozess wurde entwickelt, um den Durchsatz zu optimieren und gleichzeitig Kosten, Energieverbrauch und Zeit zu minimieren.