Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxL #9294554 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL Reactor ist ein Halbleiterbauelement zur Verarbeitung von Materialien, die bei der Herstellung elektronischer Bauelemente verwendet werden. AMAT Centura DxL setzt auf CVD-Techniken (Chemical Vapor Deposition), um dünne Filme mit präzisen Geschwindigkeiten, Dicken und Konformität auf keramischen Substraten abzuscheiden. Dieser Reaktor kombiniert Prozessautomatisierung, zuverlässige Leistung und verbesserte Produktivität, um hervorragende Ausbeuten und eine verbesserte Prozesskontrolle zu erzielen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DxL verwendet Argon als Trägergas und Stickstoff, Wasserstoff und Sauerstoff als Reaktantgase, um Filme aus verschiedenen Materialien abzuscheiden. Der Reaktor arbeitet in einer Warmwandkonfiguration mit vier beheizten Gasleitungen und zwei beheizten Duschkopfleitungen zur Zuführung der Reaktantgase. Das System ist mit 50,8 cm (20 „) und 101,6 cm (40“) Quarzrohren ausgestattet, so dass es Substrate verschiedener Größen verarbeiten kann. Die von Centura DxL abgeschiedenen Folien haben eine gleichmäßige Dicke bei einer Toleranz von ± 0,1 µm für Folien, die dicker als 0,3 µm sind. Der Reaktor ist in der Lage, Abscheideraten von 0,0001 µm/min bis 20 µm/min zu erreichen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxL umfasst auch fortschrittliche Diagnose- und Steuerungskomponenten, um einen konsistenten und zuverlässigen Prozess zu gewährleisten. Sein fortschrittliches Prozessleitsystem ist in der Lage, Prozesse automatisch zu optimieren, um den Ertrag zu maximieren. Ein fortgeschrittenes Lebenszyklusüberwachungssystem ermöglicht es Benutzern, Prozess- und Ausrüstungsparameter im Laufe der Zeit zu verfolgen, sodass Benutzer potenzielle Probleme lösen und präventive Maßnahmen ergreifen können, bevor sie zu Problemen werden. AMAT Centura DxL Reactor ist ideal für Anwendungen in der Halbleiterindustrie, einschließlich Abscheidung von dünnen Schichten für Transistortore, dielektrische Abscheidung und Metallisierung. Aufgrund seiner zuverlässigen Leistung, Prozessautomatisierung und verbesserten Produktivität ist der Centura DxL Reactor eine ideale Wahl für jede Anwendung, die eine präzise Kontrolle während des Abscheidungsprozesses erfordert.