Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #114705 zu verkaufen

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ID: 114705
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
TEOS system, 8" 4 channel Narrow body load locks Manual lid hoist HP Robot CH A, B, C – DxZ PE BSG Oxide Direct drive throttle valve AE RFG 2000-2V Astex Astron remote microwave clean 20torr Baratron 1000torr Baratron Gases (Unit MFCs): O2 10 SLM B, C, & D / O2 3 SLM A NF3 2 SLM Ar 5 SLM N2 1 SLM He 3 SLM He 10 SLM STEC LFCs TEOS Seriplex Gas Control CH E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed Currently crated (Mainframe, Pump Rack & Cables X2, Heat Exchanger, System controller, Quartz carton) Warehoused 1998 vintage.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Der Centura DxZ Halbleiterreaktor ist ein Abscheide- und Ätzreaktor, der eine höhere Produktivität und beste Abscheidungs- und Ätzleistung bietet. Es ist in der Lage, eine Vielzahl fortschrittlicher Prozesse und Anwendungen wie fortschrittliche Musterung, Reinigung, Oxidation und Nitridierung sowie ausgewählte lasergestützte Prozesse zu handhaben. AMAT Centura DxZ verfügt über eine große Kammergröße und skalierbare Prozessfähigkeiten und ist damit eine ideale Plattform für bestehende und neue Produktionsstrategien mit hohem Durchsatz. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura DxZ-Reaktor wird von einer Multi-Frequenz-Multi-Magnetron-HF-Quelle angetrieben und umfasst eine Reihe von Antriebstechnologien, um eine überlegene Prozessflexibilität zu bieten. Darüber hinaus verfügt es über eine Reihe fortschrittlicher Prozesskontroll- und Datenerfassungssysteme, die Herstellern die Möglichkeit bieten, ihren Prozess präzise und effizient zu überwachen und zu steuern. Die Vielseitigkeit dieses APPLIED MATERIALS Reaktors beruht auf seiner patentierten innovativen Mehrfrequenz-HF-Magnetronquelle, die unabhängig von anderen applizierten Frequenzen eine vollständige Plasmakontrolle ermöglicht und somit hochkomplexe, maßgeschneiderte Abscheide- und Ätzprozesse ermöglicht. Mit einem patentierten hochmodernen Plasmaimpedanztuner sorgt er für eine bestmögliche Prozessergebnisausnutzung. Der Reaktor wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Plasmaprozesse mit eingebetteten Prozessrezepten und Wafer-Handling vollständig zu automatisieren. Diese Fähigkeit ermöglicht es seinen Anwendern, schnell Rezepte für den Produktionsprozess zu entwickeln und schnell bereitzustellen. Darüber hinaus kann es aufgrund seiner spannungsarmen Verarbeitung in einer Vielzahl von Halbleitergeometrien einschließlich 3D-Strukturen eingesetzt werden, ohne dass spannungsinduzierte Defekte befürchtet werden. Centura DxZ ist ein hochflexibles Prozesswerkzeug mit einer breiten Palette anwendungsspezifischer Erweiterungen wie Clusterfähigkeit und Unterstützung für neueste Technologien wie fortschrittliche Musterung und dielektrische Materialien mit hoher K. Mit seinem fortschrittlichen Engineering-Design und einer Reihe fortschrittlicher Prozesssteuerungs- und Datenerfassungssysteme ist es die ideale Plattform, um die anspruchsvollsten Designs und Technologieknoten zu unterstützen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ wurde entwickelt, um die Produktivität und den Ertrag zu maximieren, sodass es sich schnell und einfach in eine moderne Fertigungsumgebung einfügen kann. Die branchenführenden Prozessfähigkeiten, Automatisierungsstufen und erweiterbaren Funktionen sorgen dafür, dass Hersteller ihre Produktionsziele schnell und effizient erreichen können.
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