Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #120819 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 120819
CVD system, 8"
Specifications:
208 Vac, 4 Wires, 3 phase, 250 A, 50/60 Hz
System rating: 90 kVA
Platform type: Centura I Body
Application: Etch
Wafer shape: SNNF
Technology: CVD
RPS: no (available for additional cost)
Chamber type/ location:
Position A: DXZ CHAMBER
Position B: DXZ CHAMBER
Position C: HDP CHAMBER
Position D: Blank
Position E: Blank
Position F: (OA) ORIENTER
System safety equipment:
CE Mark: No
EMO Switch type: Turn to release EMO ETI compliant
EMO Guard ring included
Smoke detector at controller: Yes
Smoke detector at MF No skin: No
Smoke detector at gen rack: Yes
Smoke detector at AC Rack: Yes
Water and smoke detector: Alarm
System labels: English
CH A: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH B: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift Assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH A: DXZ Chamber:
Process Kit: Customer option
Baratron guage: 100 Torr/ 10 Torr
Match: FIXED MATCH
Heater
Lift assembly: 0010-37792
Throttle valve: 0090-36296
Generator: AE RFG 2000-2V
CH F: (OA) orienter:
Orienter: Standard
Gas delivery options:
Component selection: Standard
Valve: VERIFLO
Transducer
Regulator
Filter
Transducer displays
MFC Type: UNIT UFC-1660
Gas panel pallet A
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
Gas Panel Pallet B
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
Gas Panel Pallet C
Line 1 Gas: C2F6
MFC Size: 300 SCCM
Line 2 Gas: NH3
MFC Size: 1 SLM
Line 3 Gas: NH3
MFC Size: 100 SCCM
Line 4 Gas: N2
MFC Size: 325 SCCM
Line 5 Gas: H2
MFC Size: 5 SLM
Line 6 Gas: N2
MFC Size: 5 SLM
Line 7 Gas: N2O
MFC Size: 2 SLM
Line 8 Gas: NF3
MFC Size: 1SLM
General mainframe options:
Facilities type: Regulated
Facilities orientation: FACILITIES BOTTOM CONNECTION
Optical character recognition: NO
Weight dispersion plates: NONE
Service lift: NONE
Loadlock/Cassette options
Loadlock type: NARROWBODY
Loadlock platform
Narrow body loadlock extension: NOT APPLICABLE
Loadlock options: NONE
Cassette Type Supported: STANDARD
Loadlock Cover Finish: ANTI-STATIC PAINTED
Loadlock Slit Valve Oring Type: KALREZ
Wafer Mapping: ENHANCED(O.T.F)
Wafer Out of Cassette Sensor: NOT AVAILABLE
Cassette Present Sensor: NOT AVAILABLE
Integrated Cassette Sensor: YES
Transfer Chamber Options:
Transfer Ch Manual Lid Hoist: YES
Robot Type: CENTURA HP ROBOT
Robot Blade Option: AL Blade
On the Fly Centerfind: YES
Wafer On Blade Detector: BASIC
Loadlock Vent: BOTTOM VENT
W Throttle Valve and Baratron: NO
HP Thruput Enhancement: NO
Clear Blank Off Plates: NO
Remotes:
Controller Type: 66 INCH COMMON CONTROLLER
Cntrlr Electrical Interface: BOTTOM FEED
Controller Exhaust: TOP EXHAUST
Controller Cover Option: YES
Adaptor for SECS Port 25 Pos: NO
Exhaust Duct: NO
Controller IO Interface: NONE
Three Way Switch Box: NO
AC Rack: Selected Option
GFI: 100mA
AC Rack Types: 66 INCH Pri/Sec AC GEN RACK
Exhaust Collar: NONE
Primary MCE AC Rack: NOT APPLICABLE
Secondary MCE AC Rack: NOT APPLICABLE
Controller Facility Interface: NO UPS
MCE Secondary Generator Rack: NOT APPLICABLE
Generator rack options :
RF On indicator: YES
RF Gen rack plexiglas cover: NO
Second RF On indicator: NO
Gen rack cooling water: Gen rack water manifold
Gen rack manifold facilities: NOT APPLICABLE
RF Generator flow meter: NOT AVAILABLE
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ ist ein ultragroßflächiges PECVD-Werkzeug (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), das für große Anwendungen entwickelt wurde. AMAT Centura DxZ hat eine Kammergröße von 10M x 10M und ist in der Lage, Substrate bis zu 8.2M x 3.2M zu verarbeiten. Es wird von einer kundenspezifischen Vakuum-Mikroprozessor-Steuereinrichtung angetrieben, die in der Lage ist, hochgleichmäßige Plasma- und gleichmäßige Niederdruck-CVD-Prozesse zu erzeugen. Der Reaktor profitiert von einem leistungsstarken Stromsystem und konformen Verkleidungsplatten und bietet die ultimative Gleichmäßigkeit und Flexibilität, die für fortschrittliche Anwendungen erforderlich sind. Darüber hinaus enthält APPLIED MATERIALS Centura DxZ eine Dual-Beam-optische Einheit, die eine einzigartige Methode zur Einstellung von Prozessparametern bietet. Diese Maschine bietet eine intuitivere Möglichkeit, Anpassungen von innerhalb der Abscheidekammer vorzunehmen. Hinsichtlich der Substratverträglichkeit bietet Centura DxZ volle Kompatibilität mit einer breiten Palette von Substraten. Es ist auch in der Lage, eine Reihe von verschiedenen Oberflächenmaterialien zu verarbeiten, einschließlich Silizium, Kieselsäure und Quarz. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ kann Substrate unterschiedlicher Größe mit einer Mindestbreite von 0,1 Millimeter und einer maximalen Breite von 8,2 Metern verarbeiten. Darüber hinaus erfolgt die Keimbildungsstufe des Abscheidungsprozesses über einen weiten Temperaturbereich von 100 ° C bis 600 ° C (je nach Anwendungsfall). Dadurch wird der Abscheidevorgang steuerbarer und weniger anfällig für mögliche Substratschäden. Hinsichtlich der Materialverträglichkeit bietet AMAT Centura DxZ Kompatibilität mit einer Vielzahl von Materialien. Sie kann Materialien wie Nitride, Boride, Nitride und Amide sowie eine Reihe von metallorganischen Vorstufen verarbeiten. Darüber hinaus ist es auch in der Lage, eine Vielzahl von Ätzgasen und metallorganischen Vorstufen zu handhaben. Dadurch wird sichergestellt, dass die Abscheide- und Ätzprozesse auf spezifische Bedürfnisse zugeschnitten werden können. Schließlich bietet APPLIED MATERIALS Centura DxZ Reaktor auch erweiterte Sicherheits- und Umweltfunktionen. Es umfasst ein fortschrittliches Sicherheitskühlmittel-Tool zur Erhaltung der Prozesssicherheit und eine optionale hocheffiziente Partikelfiltration, um eine saubere Arbeitsumgebung zu gewährleisten. Das benutzerdefinierte Prozesssteuerungsmodell ermöglicht auch die erweiterte Überwachung von Abscheideparametern und anderen Prozessvariablen. Mit diesen Funktionen ist Centura DxZ eine ideale Wahl für große industrielle Anwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor