Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9093320 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ 2.5MW PECVD Reactor ist für die Abscheidung fortschrittlicher Materialien wie amorphes, mikroporöses, Silizium und Kohlenstoffnitrid konzipiert. Es ist hochkonfigurierbar und bietet Abscheidelösungen für eine Vielzahl von Anwendungen. Der AMAT Centura DxZ Reaktor ist ein parasitärer Parallelplattenreaktor, der mit magnetisiertem Plasma einen gleichmäßigen und persistenten Abscheidegasstrom erzeugt. Dies ermöglicht optimierte Abscheideraten und konforme Beschichtungen auf allen Oberflächen. Der Reaktor ist für die Abscheidung von Schichten mit Dicken von 2 Nanometern bis 8 Mikrometern ausgelegt. Das PECVD-Verfahren bietet eine überlegene Schrittabdeckung für verschiedene Geometrien bei gleichzeitig geringer thermischer Belastung. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura DxZ-Reaktor ist mit einer Quellleistung von bis zu 2,5 MW ausgestattet, was hohe Abscheideraten ermöglicht. Die Plasmadichte ist einstellbar, so dass verschiedene Gaskombinationen optimal eingebaut werden können. Es verfügt auch über zwei separate Gaszuführungen, die eine unabhängige Steuerung der Plasmaparameter wie Temperatur, Druck und Dotierung ermöglichen. Der Betriebsdruckbereich des Centura DxZ Reaktors liegt zwischen 0,01 mbar und 4 mbar und ermöglicht eine Vielzahl von Prozessen einschließlich Ätzen und Abscheiden. Der Temperaturbereich ist zwischen 200 und 900 Grad Celsius einstellbar und ermöglicht verschiedene Prozessrezepte. Der Reaktor kann auch für eine stabile und wiederholbare Prozesssteuerung konfiguriert werden, die von Zeit zu Zeit konsistente Ergebnisse liefert. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ ist für einen sicheren und zuverlässigen Betrieb ausgelegt. Es ist mit mehreren Sicherheitssystemen ausgestattet, wie einem Bordreinigungssystem und der Temperaturerfassung. Dies ermöglicht einen sicheren Betrieb und die Vermeidung von Kontaminationen durch Restgase. Insgesamt ist der AMAT Centura DxZ Reaktor ein fortschrittliches Werkzeug zur Abscheidung einer Vielzahl fortschrittlicher Materialien für verschiedene Anwendungen. Seine weiten Betriebstemperatur- und Druckbereiche, kombiniert mit hoher Leistung und einer stabilen und wiederholbaren Prozesssteuerung machen es zu einer flexiblen und zuverlässigen Abscheidelösung.