Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9162773 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9162773
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1988
CVD System, 8" Wafer type: Notch Narrow body load locks Manual lid hoist HP Robot (4) Chambers: A, B, C, D – DxZ Silane oxide Direct drive throttle valve AE RFG 2000-2V 10Torr Baratron 100Torr Baratron Gasses (Unit MFCs) 300cc N2O 3SLM N2O 5SLM He 3SLM CF4 150cc SiH4 5SLM N2 Seriplex gas control Chamber E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed OTF Centerfind 1988 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ ist ein fortschrittlicher Ätz-/Reaktivionenätzreaktor (RIE), der für die Herstellung integrierter Schaltkreise entwickelt wurde. Das DxZ ist in der Lage, Substrate zu ätzen, zu reinigen, zu implantieren und thermisch zu verarbeiten. Die Prozesskammer besteht aus Edelstahl für Korrosionsbeständigkeit und verfügt über eine integrierte Kathode und Anode für die Substratverarbeitung und ein Auto-Tune-System für präzises Ätzen. Das DxZ ist mit modernster Gasregelungstechnik ausgestattet, darunter ein Gasdurchflussmesser-Monitor und ein Gasschrank mit Multiple-Choice-Düsen für konsistente Durchflussmengen. Der Reaktor hat eine tiefe Fallen Konfiguration, um die Ätzrate und Qualität zu maximieren, sowie zwei Gaskrümmer, die Massenstrom Gleichmäßigkeit optimieren. Die Verriegelungen und Sicherheitsfunktionen sorgen für einen ordnungsgemäßen Ablauf, wenn der Betrieb angehalten oder neu gestartet wird, und das Auto-Tune-System sorgt für eine präzise Ätzung während des Betriebs. Der DxZ ist mit einem fortschrittlichen Substratlader ausgestattet, der bis zu dreißig Substrate unterschiedlicher Größe präzise handhabt. Die Borosilikatglasoberseite ist so konstruiert, dass sie Temperaturgleichmäßigkeit und Wärmeableitung liefert, während der pulsierende Schild die Plasmagleichförmigkeit erhöht und das Waferstoßen verringert. Die HF-Impedanzanpassungsnetzwerke bieten eine sichere und genaue Stromversorgung. Darüber hinaus verfügt das DxZ über fortschrittliche Kühlsysteme wie eine Flüssigstickstoffkreiskühlung und ein HF-Thermomanagement für optimale Kühlleistung. AMAT Centura DxZ ist als zuverlässiger und effizienter Produktionsgradetch/RIE-Reaktor konzipiert. Die fortschrittliche Gasregelungstechnologie, die Gleichmäßigkeit der hohen Prozesstemperatur, die Fähigkeit, eine breite Palette von Substraten bis zu 32 in Zahlen- und HF-Impedanzanpassungsnetzwerken unterzubringen, sorgen für maximale Ätzgeschwindigkeit, Genauigkeit und Produktqualität. Der hohe Durchsatz, die Optimierung und die Leistung des DxZ machen es zu einer idealen Wahl für die Produktion integrierter Schaltungen für Anwendungen mit hohem Wert und hoher Ausbeute.
Es liegen noch keine Bewertungen vor