Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9177323 zu verkaufen

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ID: 9177323
Wafergröße: 8"
Chamber, 8" Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat) System configuration: Chamber B: Heater: AL Clean method: RF Frequency: Dual HF + LF Manometer: Single 100 torr Gas delivery: MFC Type: STEC 4400MC Valves: FUJIKIN 5 Ra Max Filters: Millipore Transducers: MKS with display Regulators: Veriflo Single line drop (SLD): No Liquid delivery type: EPLIS Injection valve: Yes LFM TEOS: Yes Chamber B Model Size NF3 STEC 4400 300 sccm C2F6 STEC 4400 2 SLM O2 SETC 4400 3 SLM N2 STEC 4400 1 SLM HE STEC 4400 3 SLM LFM LF-410A 1.5 g/m (2) Generators: HF Generator LF Generator Umbilicals: Signal cable length (S/C ~ MF): 25Ft RF Gen coax cable length: 50Ft Pump cable: 50Ft.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ ist ein vielseitiger Reaktor für die Dünnschichtabscheidung. Es verwendet physikalische Dampfabscheidung, um hochwertige dünne Filme abzuscheiden, so dass es ideal für Halbleiter/optoelektronische Herstellung sowie andere Anwendungen. Der Reaktor weist eine große Prozesskammer zur Aufnahme von Substraten verschiedener Formen und Größen auf. Es verwendet auch eine Mehrzonenheizung, die eine präzise Steuerung der thermischen Energie während des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Der Reaktor ist für eine verbesserte Gleichmäßigkeit ausgelegt, so dass dünne Filme mit demonstrierter Gleichmäßigkeit über den Wafer aufgebracht werden können. Das leistungsstarke Design trägt auch dazu bei, die Partikelaufnahme zu minimieren, mit einem optimierten Gasströmungssystem, um sicherzustellen, dass Partikel durch Luftströme und andere Gase beim Austritt aus dem Prozess weggefegt werden. Die Centura verfügt auch über eine Reihe von einzigartigen Funktionen, die dazu beitragen, Empfindlichkeiten zu minimieren und die Genauigkeit bei der Dünnschichtabscheidung zu gewährleisten. Seine hochpräzisen Gasventile wurden entwickelt, um den Gasfluss genau zu regulieren, während seine hochpräzisen Prozessüberwachungssysteme Daten über Prozessantwort und -leistung liefern. Darüber hinaus verfügt das Gerät über erweiterte Diagnose- und erweiterte Prozesscontroller-Funktionen, mit denen Bediener Prozesse nach Bedarf ändern können, um auf dem Ziel zu bleiben. Das Design von AMAT Centura DxZ ermöglicht zudem die Überwachung unterschiedlichster chemischer Reaktionen, so dass der Abscheidungsprozess genau ausgerichtet und für optimale Ergebnisse optimiert werden kann. Es hat auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie ein Inertgasschließfach und ein Countdown-Timer zur Verhinderung von Überprozessen. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Centura DxZ eine fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsmaschine, die eine zuverlässige und wiederholbare Dünnschichtabscheidung ermöglicht. Das vielseitige Design ermöglicht eine genaue und gleichmäßige Beschichtung mit einem starken Fokus auf Zuverlässigkeit, Sicherheit und Wiederholbarkeit. Durch die Kombination fortschrittlicher Merkmale und Verfahren sorgt die Centura dafür, dass dünne Folien präzise und mit hohen Ausbeuten aufgebracht werden.
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