Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9193775 zu verkaufen

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ID: 9193775
DCVD System Voltage: 208 VAC Phase: 30’’ (4) Wires Full-load current: 240A Frequency: 60Hz Maximum system rating: 87KVA Ampere rating of largest load: 140A Interrupting current: 10,000 Chamber A: TEOS, He, O2, N2, NF3, Ar Chamber B: a-Si, SiO, SiON, SIN (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, NF3, Ar) Chamber C: a-Si, SiO, SiN (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, PH3/H2, NF3, Ar) Chamber D: SiO, SiON (SiH4, N2O, H2, He, N2, NH3, NF3, Ar).
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ Reactor ist für Hochleistungs-Prozesschemie und physikalische Aufdampfung (PVD) von fortschrittlichen Materialien konzipiert. Das DxZ ist ein vollautomatisiertes hochpräzises Prozesswerkzeug zur schnellen und zuverlässigen Herstellung fortschrittlicher Folienstrukturen. Es ist mit einem hohen Maß an up-time konstruiert und qualifiziert, um die anspruchsvollsten Umwelt-, Betriebs- und Prozessbedingungen zu erfüllen. Der DxZ Reactor ist mit einem fortschrittlichen MFC Mass Flow Controller ausgestattet, der eine präzise Prozesssteuerung ermöglicht und über eine einzigartige „Zone-by-Zone“ -Steuerungsausrüstung verfügt. Diese Funktion hilft, die Ausbreitung der Reaktandengaskonzentrationen über das Reaktorvolumen zu kontrollieren und das Risiko von Prozessdrift zu verringern. Darüber hinaus verfügt das DxZ über ein Mehrzonen-Gassystem mit großer Kapazität, das die Wiederholbarkeit der Prozesse verbessert und das Driftrisiko reduziert. Die Process Cladding Plasma Source (PCPS) liefert gleichmäßige ICP (Inductively Coupled Plasma) -Eingänge in die Verarbeitungskammer mit hoher Effizienz und Prozessgleichförmigkeit. Die PCPS arbeitet mit einer intelligenten Stromversorgung, um Puls-Peak-Stabilität und glatte Plasmaprofile für optimierte Prozessstabilität und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Der DxZ Reactor ist für einen robusten Betrieb in der Reinraumumgebung ausgelegt und mit der neuesten reinraumkonformen Automatisierung und Software ausgestattet. Das vollautomatische Lastschloss ist für eine minimale Prozessunterbrechung ausgelegt und mit einem lampenbeleuchteten Innenraum für eine reduzierte Verschmutzung ausgestattet. Das DxZ verfügt über eine erweiterte Protokollierungsfunktion für die Lasthistorie, um genaue Prozessinformationen zu verfolgen und zu dokumentieren. Eine spezielle Umgebungssteuerungsmaschine bietet eine reinraumkonforme Atmosphäre für zuverlässige, wiederholbare und gleichmäßige Schichtabscheidung. AMAT Centura DxZ verfügt über eine breite Palette fortschrittlicher Prozessfähigkeiten, darunter Waferbonden, uni-direktionale Sputterabscheidung, Legierungsabscheidung, ALD (Atomic Layer Deposition) und IPVD (Inner Plasma Vapor Deposition). Dieses Werkzeug ist in der Lage, eine Vielzahl von Spezialmaterialien zu verarbeiten, so dass es ideal für die Herstellung komplexer Hochleistungsgeräte ist. Darüber hinaus verfügt das DxZ über flexible Betriebsmodi, mit denen Benutzer ihre Prozessparameter für die besten Leistungsergebnisse anpassen können. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura DxZ Reactor ist für die Hochleistungs- und Hocheffizienzverarbeitung einer Vielzahl fortschrittlicher Materialien konzipiert. Es ist mit einem umfassenden Sicherheits- und Prozesskontrollwerkzeug ausgestattet, um eine zuverlässige Prozessleistung zu gewährleisten. Das DxZ ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Verarbeitung hochspezialisierter Materialien und somit eine ideale Wahl für fortgeschrittene Fertigungsanwendungen.
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