Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DxZ #9230376 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9230376
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
CVD System, 8"
(3) Chambers: DxZ
Chamber A:
Manometer: 100/2
Heater: AL
Clean method: AE 2000-2V
Pressure method: Direct drive throttle valve
Chamber B:
Manometer:100/2
Heater: AL
Clean method: AE 2000-2V
Pressure method: Direct drive throttle valve
Chamber D:
Manometer:100/2
Heater: AL
Clean method: AE 2000-2V
Pressure method: Direct drive throttle valve
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Narrow body loadlock
HP Robot
OTF
Valves: Unit MFCs
Filters: MILIPORE
Regulators: VERIFLO
System cabinet exhaust: Top
Single line drop
Gas pallet configuration:
Chamber A / Size / Model
SiH4 / 500 sccm / Stec MFCs
NH3 / 200 sccm / Unit MFCs
NF3 / 1 Slm / Unit MFCs
N2O / 500 sccm / Unit MFCs
N2 / 5 Slm / Unit MFCs
Chamber B / Size / Model
SiH4 / 500 sccm / Stec MFCs
NH3 / 200 sccm / Unit MFCs
NF3 / 2 Slm / Unit MFCs
N2O / 500 sccm / Unit MFCs
N2 / 5 Slm / Unit MFCs
Chamber D / Size / Model
SiH4 / 500 sccm / Stec MFCs
NH3 / 200 sccm / Unit MFCs
NF3 / 1 Slm / Unit MFCs
N2O / 500 sccm / Unit MFCs
N2 / 5 Slm / Unit MFCs
Process: Nitride deposition (Nit. Pass.)
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DxZ Reactor ist ein Serienreaktor auf Produktionsebene, der in der Lage ist, Hochleistungsmaterialien für eine Vielzahl von Anwendungen herzustellen. Der DxZ Reaktor ist einzigartig für die Herstellung plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidung (PE-CVD) ausgelegt. Der DxZ-Reaktor ist mit einem Drehscheibenboden und einem 4-Segmente-Mehrfachplasma ausgelegt. Auf diese Weise können die Geräte eine Vielzahl von Materialien wie Nitrid, Oxid, diamantähnlichen Kohlenstoff (DLC) und Verbindungen auf Siliziumbasis synthetisieren, die auf spezifische Anwendungen zugeschnitten werden können. Der Plattenspieler wird auch verwendet, um zwischen verschiedenen Zielen zu wechseln, was verschleißfeste Multisegmentziele ermöglicht. Im Betrieb verwendet der DxZ-Reaktor ein dreistufiges Verfahren. Die erste Stufe ist die Gaseinleitung, wo Gase in die Kammer gelangen und zur Synthese entsprechend gemischt werden. In der zweiten Stufe wird das gepulste Plasma durch ein Leistungssystem erzeugt und aufrechterhalten, das dem Prozess angepasste Leistung liefert. Schließlich wird in der dritten Stufe ein Substrat in die Kammer eingelegt und die aus dem Gemisch aus hochfrequenten elektrischen Feldern und Gasen gebildeten reaktiven Spezies zur Materialbildung auf das Substrat abgeschieden. Der DxZ-Reaktor verfügt auch über mehrere Sicherheitsfunktionen, um einen zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten. Dazu gehören Sicherheitsverriegelungen und Drucksensoren für die Gaseinlasseinheit und eine Gasabgasmaschine mit einstellbarem Timer sowie eine hocheffiziente Partikel- und Schadgasfiltration. Dank seines Designs und seiner Eigenschaften ist der Corning AMAT Centura DxZ Reactor ein hervorragendes Werkzeug zur Herstellung hochwertiger, hochleistungsfähiger Materialien. Das robuste Design, die Sicherheitsmerkmale und die Vielzahl von Substratmaterialien machen es zu einer großen Wahl für kommerzielle, industrielle und Forschungsanwendungen.
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