Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura E 5200 #118505 zu verkaufen

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ID: 118505
Wafergröße: 8"
PVD frame Partial cool down chamber No PVD chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura E 5200 ist ein in der Halbleiterindustrie gebräuchlicher Plasma-Epitaxie-Epitaxiereaktor. Dieser Reaktor ist ein Mehrrahmenwerkzeug, das zwei gleichzeitige Prozesse ermöglicht. Es ist in der Lage, verschiedene Transmutationsstufen, von sehr niedrig bis sehr hoch. Die Temperatur der gekühlten Zone ist einstellbar und ermöglicht eine präzise und stabile Prozesssteuerung. AMAT Centura E 5200 ist für Wafergrößen von bis zu 150 mm konzipiert und bietet eine erhöhte Kapazität für mehr Produktivität. Es verfügt auch über eine doppelseitige Heizung und Kühlausrüstung, die eine verbesserte Temperaturgleichförmigkeit ermöglicht. Dies hilft auch bei der Reduzierung thermisch bedingter Belastungen und der Aufrechterhaltung eines konsistenten, genauen Prozesses mit minimalen thermischen Zyklen. Der Reaktor ist in der Lage, Niedertemperatur, CMP-Last Polieren und Niedertemperatur, thermisch-Spray Co-Niederschlag (CPC) Prozesse für hochwertige, Sub-Mikron-Geräte. Es verfügt auch über ultra-niedrige Kapazität Technologie für die besten leistungsfähigen Transistoren auf kleinstem Raum. Durch das optimierte elektrostatische Spann-, Düsen- und Waferspannsystem können hohe Toleranzen erreicht werden. Angewandte Materialien Centura E 5200 ist auch in der Lage, eine Vielzahl von Laserprozessen, wie Scan Rotation Tilt (SRT) und DNA. Diese Laserprozesse ermöglichen fortgeschrittene Strukturen wie größere Verbindungsdichte, engste Tore und zuverlässigere Durchsiliziumvias. Der Reaktor verfügt über eine integrierte Messtechnik-Einheit, die es Prozessingenieuren ermöglicht, die Leistung des Geräts zu überwachen und das Ergebnis eines bestimmten Prozesses zu messen. Darüber hinaus stehen umfangreiche Prozess- und Entwicklungswerkzeuge zur Verfügung, mit denen Ingenieure den Prozess kontinuierlich verbessern können. Dazu gehören HF-Matching, HF-Messungen und Tests sowie FIZ (Fused Ionization Zone) -Steuerung. Centura E 5200 ist ein leistungsstarker, zuverlässiger und präziser Reaktor zur Herstellung komplizierter Geräte und fortschrittlicher Strukturen. Die einstellbare Temperatur der gekühlten Zone, die doppelseitige Heizung und Kühlmaschine, die langfristige Prozesssicherheit und das integrierte Messtechnikwerkzeug machen es zu einer Top-Wahl für viele Verfahrenstechniker.
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