Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax CT+ #293633129 zu verkaufen

ID: 293633129
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Etcher, 12" 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax CT + ist ein Plasmaätzreaktor der nächsten Generation, der für die fortschrittliche Halbleitertechnik entwickelt wurde. Diese innovative Lösung wurde entwickelt, um überlegene Leistung für überlegene Prozessausbeuten und Wiederholbarkeit zu bieten. Der Reaktor eMax CT + verfügt über ein einzigartiges patentiertes Design, das bewährte hocheffiziente induktiv gekoppelte Plasma (ICP) -Technologie mit innovativen Detektoren und Verbesserungen der Bedienbarkeit kombiniert, um eine erstklassige Prozesssteuerung zu ermöglichen. Diese Kombination leistungsstarker Funktionen macht den eMax CT + zu einem äußerst zuverlässigen und effizienten Werkzeug für die Nanofabrikation. Der eMax CT + Reaktor verfügt über eine fortschrittliche Waferorientierungseinrichtung, die eine präzise Ausrichtung für beide Wafer in der Ätzkammer ermöglicht. Dies ermöglicht die Herstellung von hochauflösenden Mustern mit einer unglaublich kleinen Funktionsgröße. Das eMax CT + verfügt außerdem über ein variables Kammerdrucksystem, das die Einstellung des Gasdrucks in der Einheit ermöglicht und präzise und wiederholbare Prozessergebnisse gewährleistet. Darüber hinaus nutzt der Reaktor einen Quarzkristallmonitor mit schnellem Ansprechverhalten, um Prozessüberwachung und -optimierung in Echtzeit zu ermöglichen. Das eMax CT + verfügt auch über eine fortschrittliche Gasliefermaschine mit volumetrischer Anpassung, um Prozessparameter zu optimieren und eine schnelle und iterative Erkundung von Prozessrezepten zu ermöglichen. Darüber hinaus nutzt der Reaktor eine ausgeklügelte Rezept-Management-Software, um die dynamische Veränderung von Prozessparametern zu ermöglichen. Für maximale Produktivität bietet der eMax CT + Reaktor auch Mehrkassettenbeladbarkeit sowie Überwachung und Steuerung auf niedrigem Lastniveau. Das eMax CT + verfügt außerdem über ein fortschrittliches Kühlwerkzeug mit sorgfältig optimierten Flüssigkeitskühlsystemen und Ventilatoren mit variabler Geschwindigkeit, um zuverlässige und konsistente Prozessstabilität zu gewährleisten. Die leistungsstarke Kühlanlage ermöglicht zudem eine effektivere und genauere Temperaturregelung in der Kammer und ermöglicht präzisere und wiederholbare Prozesse in der Ätzkammer. Der eMax CT + Reaktor wurde entwickelt, um ein unglaublich vielseitiges Werkzeug zu sein, das eine breite Palette von Substratmaterialien wie Wolfram, Titan, Aluminium und Titannitrid handhaben kann und eine breite Palette von Prozessanwendungen ermöglicht. Das Modell kann bis zu 6-Zoll-Wafersubstrate mit einer maximalen Prozessrate von 600 nm/min handhaben und bietet Spitzenleistung für die fortschrittliche Halbleitertechnik.
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