Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9227021 zu verkaufen

ID: 9227021
Wafergröße: 12"
Etchers, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS Der Centura eMax Reaktor ist ein hochentwickelter Halbleiterreaktor, der kritische Chip-Ätztechnologie bietet, die für die Herstellung fortschrittlicher Lithographiesysteme erforderlich ist. Dieser Reaktor wurde entwickelt, um eine präzise Mikrobearbeitung mit höchster Genauigkeit und hoher Stabilität zu ermöglichen, um den Anforderungen anspruchsvoller Halbleiterprozesse gerecht zu werden. Herzstück des AMAT Centura eMax Reaktors ist eine fortschrittliche Ätzkammer, die aus fortschrittlichen Quarzglasmaterialien aufgebaut ist. Die Kammer bietet eine überlegene thermische Stabilität und eine ausgezeichnete Umweltkontrolle in einer Vielzahl von Herstellungsbedingungen. Die Kammer wird auf einer Temperatur von bis zu 300 ° C gehalten, was zur Erhöhung der Prozessgeschwindigkeit beiträgt. Darüber hinaus sorgt ein einfaches Design für eine schnelle Reaktionszeit und hilft, Fehler zu reduzieren und Erträge zu erhöhen. Die Kammer ist auch mit einem einzigartigen CCD-Bildgebungssystem ausgestattet, das eine schnelle und genaue Ausrichtung der Prozesskammer ermöglicht. Dies hilft, eine optimale Substratausrichtung zu gewährleisten, was zu höheren Ausbeuten und weniger Substratdefekten führt. Ein einzigartiges Photon Etch Pulse System ist enthalten, um die Genauigkeit und Geschwindigkeit des Lithographieprozesses weiter zu verbessern. Dieses System trägt zur Verbesserung der Einheitlichkeit des Ätzprozesses bei. Die beheizte Ätzkammer wird von einem fortschrittlichen Magnetron mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit angetrieben. Diese stark kontrollierte Umgebung trägt dazu bei, prozessbedingte Variabilität zu reduzieren und Kosten zu senken und gleichzeitig die höchstmöglichen Erträge zu erhalten. Eine umfangreiche Rezepturbibliothek, die unter Verwendung von APPLIED MATERIALS Centura eMax Reaktor leicht auf eine Vielzahl von Geräteanforderungen wie hohe Seitenverhältnisstrukturen, Niederspannungs-Prozessmanagement und Hochgeschwindigkeitsätzen zugeschnitten werden kann. Der Reaktor verfügt außerdem über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, darunter aktive Kühlwände, thermische Abschaltung und ausfallsichere Verifikationssperren. Alle diese Funktionen kombinieren, um einen sicheren und zuverlässigen Lithographie-Prozess zu gewährleisten. Für mehr Komfort bietet der Reaktor auch Fernüberwachungsfunktionen, die Fernaktualisierungen des Prozesses in Echtzeit ermöglichen. Zusammenfassend ist der Centura eMax-Reaktor ein fortschrittliches Ätz- und Lithographiewerkzeug, das eine überlegene Wiederholbarkeit und Genauigkeit für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse bietet. Diese hochmoderne Ausrüstung ist in der Lage, die anspruchsvollsten Prozessanforderungen zu erfüllen und bietet Anwendern von Anfang bis Ende Sicherheit und vollständige Kontrolle über den Prozess.
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