Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9250672 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax ist ein hochmoderner Reaktor, der präzise Ätz- und Abscheideprozesse bereitstellt, um die Entwicklung und Produktion fortschrittlicher Halbleiterbauelemente und -komponenten zu unterstützen. Dieser Reaktor ist auf die anspruchsvollen Prozessanforderungen der Halbleiterindustrie ausgelegt. AMAT Centura eMax kann einen höheren Ätzdurchsatz liefern als jeder andere Reaktor. Dies wird durch zahlreiche Funktionen wie hohe Seitenverhältnisätzungen und Prozessflexibilität erreicht. Das einzigartige Ätzzellen-Design von APPLIED MATERIALS Centura eMax führt zu überlegener Ätzgleichmäßigkeit und Funktionskontrolle. Darüber hinaus bietet dieses Design Leistung und mechanische Stabilität, zusammen mit erhöhter Gasgleichförmigkeit und ausgezeichneter Partikeleinschluss. Centura eMax enthält auch viele innovative Funktionen zur Verbesserung der Produktion. Die Temperaturregelung und Gleichmäßigkeitsfunktionen ermöglichen eine präzise Temperaturregelung, eine optimale Waferverteilung und eine unabhängige Steuerung mehrerer Prozesskammern. Die Auto-Tune-Funktion macht AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax gut geeignet, um die Prozessleistung zu optimieren. Die CVC-Fähigkeit hilft weiter, die Inline-Defektivität zu reduzieren und die Prozessstabilität zu verbessern. Darüber hinaus unterstützt AMAT Centura eMax die Rückverfolgbarkeit von ein- und ausgehenden Chargen sowie die vollständige Datenerfassung und Prozesskontrolle. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura eMax bietet überlegene Ätzleistung und Prozessflexibilität, um jede Produktionsanforderung zu erfüllen. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und Fähigkeiten machen es zu einer idealen Wahl für fortgeschrittene Halbleiterbauelemente. Centura eMax wurde entwickelt, um komplexe Produktionsanforderungen zu bewältigen und gleichzeitig eine überlegene Kontrolle, Flexibilität und Rückverfolgbarkeit zu gewährleisten. Die Ergebnisse sind bessere Geräteausbeuten und reduzierte Zykluszeiten.