Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura eMax #9260048 zu verkaufen

ID: 9260048
Wafergröße: 8"
System, 8" Model: Centura 5200 I (3) Chambers Centura 5200 I PH2 Mainframe Loadlock: Wide body SBC: V452 Robot: VHP+ Loadlock features: Body loadlock: Wide body Slit valve door O-ring: Viton UNIVERSAL Wafer / Cassette sensors Manual lid hoist Helium cooling: MKS 649 Gas panel type: Seriplex MFC Type: Unit 8160 No dummy wafer storage eMax Chambers A, B and C Gate valve: VAT MKS Manometer, 1 Torr Chuck: Ceramic ESC ALCATEL ATH 1600 Turbo pump ALCATEL ACT 1300 M Turbo pump controller RF Match box: 0010-30686 ENI OEM 28B RF Generator Endpoint type: Hotpack Chamber F: ORIENT Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura eMax ist eine aktualisierte Version der Centura-Serie fortschrittlicher Ätz- und Abscheidungsreaktoren, die zur Herstellung integrierter Schaltungen (ICs) verwendet werden. Es ist eine branchenführende Ausrüstung, die speziell entwickelt wurde, um überlegene Geräteleistung und Prozesskontrolle zu liefern. Das System ist mit einer 10-Platten-Einkammer-Quellkonfiguration ausgestattet. Diese Konfiguration ermöglicht einen höheren Durchsatz, eine verbesserte Produktivität und eine größere Flexibilität bei Ätz- und Abscheidungsprozessen. Mit ihrer aktiven Gasverteilungstechnologie, einer Reihe von Plasmaquellen und einer proprietären HF-Einheit steuert die Maschine effizient den Ätz- und Abscheidungsprozess. Das Tool ist mit einem integrierten erweiterten Prozessmonitor gepaart, der Benutzern eine verbesserte Fähigkeit bietet, die gewünschten Prozessergebnisse anzupassen. Es ist auch mit eingebauten Reinigungsfunktionen und einem automatisierten abstimmbaren Filter ausgestattet, der Anwendern hilft, den Abscheidungsprozess zu optimieren. Der Vermögenswert nutzt eine gleichmäßige Materialverteilung über das Substrat, wodurch manuelle Eingriffe bei der Herstellung entfallen. Dies vereinfacht den Prozess erheblich und reduziert das Potenzial für menschliches Versagen. AMAT Centura eMax ist zudem mit einem fortschrittlichen Temperiermodell ausgestattet, das Anwendern hilft, während des Ätzprozesses eine stabile Temperatur aufrechtzuerhalten. Dadurch wird sichergestellt, daß die Mehrfachschichten des IC-Substrats mit gleicher Genauigkeit geätzt werden, was zu einer gleichmäßigen schichtweisen Dicke führt. Die Geräte sind auch für Geschwindigkeit und Durchsatz optimiert, so dass Anwender ICs mit maximaler Effizienz produzieren können. Dies wird durch vertikale Integration und kompakte Faktorauslegung erleichtert. Neben der fortschrittlichen Technologie ist APPLIED MATERIALS Centura eMax benutzerfreundlich - so können Anwender das System einfach verwalten und überwachen. Seine Benutzeroberfläche umfasst intuitive visuelle Hinweise und interaktive Workflows, die das Prozessmanagement vereinfachen und das Fehlerpotenzial reduzieren. Insgesamt ist Centura eMax ein branchenführender fortschrittlicher Ätz- und Abscheidungsreaktor, der eine hervorragende Geräteleistung und Prozesskontrolle ermöglicht. Es ist für Geschwindigkeit, Durchsatz und Genauigkeit optimiert, so dass Anwender hochwertige ICs mit maximaler Effizienz herstellen können.
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