Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #293621413 zu verkaufen

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ID: 293621413
Wafergröße: 6"-8"
Weinlese: 2004
System, 6"-8" (3) ATM Epi Chambers Flow point: Nano valve Gas panel M-Monitor: CRT SIEMENS PLC with Digital flow control with interlock and passphrase CB1 Amps: 300 A HDD upgraded to RAID V452 SBC Board Serial isolator (2) Leak detect / System reset OTF / Centre find Chamber A, B, C: Interlock M/F Interlock Loadlock Interlock Chamber A, B, C DI / O1 DI / O2 Chamber D: DI / O2 Chamber E: DI / O0 SBC Video I/O Expansion SEI Chamber A, B, C, D: AIO Mainframe AI01 CH E / MF AI02 Mainframe: DI01, DI02, DI03, DI04, DI05, DI06 Mainframe Stepper 1 Robot and indexer stepper: VX2 2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi ist ein Reaktor, der speziell für die Herstellung von halbleitenden Bauelementen entwickelt wurde. Dieser Reaktor ist in der Lage, die Aufdampfung und epitaktische Verarbeitung durchzuführen, das wichtigste Verfahren zum Abscheiden von dünnen Schichten und zum Erzeugen von mehrschichtigen Vorrichtungen wie integrierten Schaltungen. Mit seinem hohen Durchsatz, der hohen Temperatur und der hohen Gleichmäßigkeit ist der AMAT Centura Epi Reaktor eines der leistungsstärksten Werkzeuge für die Entwicklung fortschrittlicher Halbleitertechnologien. ANGEWANDTE MATERIALIEN Der Centura Epi Reaktor wurde entwickelt, um eine robuste und zuverlässige Ausrüstung zu sein, die fortschrittliche Prozesstechnologie nutzt und eine integrierte Hard- und Softwareumgebung umfasst. Es ist mit hochpräzisen Bewegungen, fortschrittlicher thermischer und elektrischer Steuerung und einer leistungsstarken, aber einfach zu bedienenden, softwarebasierten Schnittstelle ausgestattet. Zu den Hauptkomponenten des Centura Epi Reaktors gehören ein elektronenemittierender Substrathalter, ein Prall- und Gaseinspritzsystem zur Produktsteuerung und Reinigerproduktion, ein Gassiebfeldeffektgerät und -steuergerät, eine Gleichstromverdampfungsquelle sowie ein elektromagnetischer und Oberflächenwellengenerator. Der Substrathalter ist mit einer Reihe von elektronischen Geräten ausgestattet, so dass er ein gleichmäßiges Temperaturprofil aufrecht erhalten kann. Dies hilft, thermische Schwankungen zu minimieren und ein gleichmäßiges Wachstum von dünnen Schichten und epitaktischen Schichten zu erzielen. Die Prall- und Gaseinspritzmaschine unterstützt die Produktsteuerungsfähigkeiten, so dass der Benutzer eine Umgebung innerhalb vorgegebener Parameter genau steuern und aufrechterhalten kann. Das Gassiebfeld-Effekt-Gerät ermöglicht eine hocheffiziente Produktsteuerung, wodurch die Gasverschmutzung reduziert wird, indem der Eintritt fremder oder unerwünschter Materialien verhindert wird. Die Gleichstrom-Verdampfungsquelle liefert eine sehr gleichmäßige, hohe Verdampfung von Material aus jeder Quelle, wodurch ein höheres Qualitätswachstum und Abscheidungen gewährleistet sind. Schließlich bietet der elektromagnetische und Oberflächenwellengenerator die Kompatibilität mit dem weitesten Bereich von zirkulierenden und statischen Komponenten und schützt die Leistung weiter vor Schäden oder Beschädigungen. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi Tool ein fortschrittlicher, effizienter und zuverlässiger Reaktor, der einen hohen Durchsatz und eine einheitliche Wachstumsumgebung für die Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen halbleitenden Bauelementen bietet. Es wurde mit einer integrierten Hardware- und Softwareumgebung entwickelt und enthält eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, die es Anwendern ermöglichen, die Umgebung genau zu steuern und qualitativ hochwertige Ergebnisse zu erzielen.
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