Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9137479 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9137479
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
CVD Reactors, 8"
Chamber type:
Position A : HTF Nitride
Position B : HTF Nitride
Position F : (CA) Single slot cooldown
Electrical requirements
Line voltage : 480V With transformer
Line frequency : 60 HZ
Line amperage : 600A
System safety:
EMO Switch type : Momentary EMO
EMO Guard ring
HTF NITRIDE EPI
RP Pressure chamber
Thickness control options : BMV
Third manometer : 200 TORR
Leak check port
RGA Port and valve
HTF NITRIDE EPI :
RP Pressure Chamber Selected Option
Thickness Control Options BMV
Third Manometer 200 TORR
Gas Line Isolation
Leak check port
RGA Port and Valve
Gas Delivery Options:
Epi Gas Delivery Options:
Gas Panel Type Surface Mount Gas Panel
Gas Panel Exhaust CHAMBER B SIDE
MFC : AREA,UNIT,STEC,ETC
Filter Milipore
Pump Purge
CH A Gas Options
CH A ATM Pressure
CH A H2
CH A N2
CH A SIH4
CH A SIH4
CH A H2
CH A NF3
CH B Gas Options:
CH B ATM Pressure
CH A H2
CH A N2
CH A SIH4
CH A SIH4
CH A H2
CH A NF3
Mainframe
Loadlock
Loadlock Type : Wide body
Cassette Platform Type : Universal
Common Chamber Options :
Variable Speed Blower
SWmonitor Quartz Pyrometer Kit 2
Lamps Type USHIO BNA6
Susceptors STANDARD NCP
Brands XYCARB
Lift Pin Type HOLLOW SILICON CARBIDE
Susceptor Support Shaft NCP SUSCEPTOR SUPPORT SHAFT
Tips SILICON CARBIDE REMOVABLE TIPS
Exhaust Inserts Quartz
Transfer Chamber
Wafer Sensing : OTF
Transfer chamber Lid Hoist :
Robot :HP ENP
Transfer Chamber Purge 15 SLM
Diagnostics and Control :
SecsTrac
Remotes :
System controller :
Controller Plexiglass Cover
Flash Memory Drive : SCSI
Vacuum pumps :
Loadlock chamber pump : Edwards QDP40
Process chamber pump : Edwards QDP80
System Monitors:
Monitor Type : CRT
(1) Monitor
Wall
(1) Table mount
Cable Lengths (Effective) :
Controller to Mainframe : 23 ft
Controller to Pump : 48 ft
Controller To TTW Monitor : 50 ft
Controller to table Mount Monitor : 24 ft
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi ist eine hochmoderne Mehrzonenausrüstung zur Abscheidung von epitaktischen Schichten. Dieser Reaktor verwendet ein hocheffizientes Design, dank seines hoch optimierten Injektors, sogar Heizzonen und einem niedrigen Temperaturkoeffizienten. AMAT Centura Epi verfügt über einen erweiterten Multi-Zone-Injektor, der die Gleichmäßigkeit der dicken Schichten durch einen diffusionsgesteuerten Prozess gewährleistet. Dieser Injektor hat einen hohen Durchsatz und einen niedrigen Temperaturkoeffizienten, was ihn in seinem Betrieb sehr effizient macht. Der Reaktor verfügt über Heizzonen mit einer fortschrittlichen thermischen Verarbeitung, die eine gleichmäßige und gleichmäßige Erwärmung des Substrats ermöglicht. Dies ermöglicht die Gleichmäßigkeit von thermischen Schichten, was hilft, die höchsten Ausbeuten von epitaktischen Schichten während des Abscheidungsprozesses zu halten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Epi wurde entwickelt, um durch den Einbau einer Vakuumpumpe und eines Gasgebläsesystems sehr zuverlässig zu sein. Diese Systeme helfen bei der Steuerung des Vakuumdrucks und sorgen für einen gleichmäßigen Gasstrom. Dies gewährleistet eine stabile und konsistente Umgebung für den Abscheideprozess. Das Gerät umfasst auch mehrere Überwachungs- und Steuerungssysteme, wie Durchflussmenge, Druck und Temperaturregelung. Diese Systeme tragen dazu bei, die Prozessparameter konsistent zu halten und eine hohe Qualität und zuverlässige Abscheidung von Epitaxieschichten zu gewährleisten. Centura Epi umfasst eine digitale Schnittstelle für die automatisierte Datenerfassung, die bei der Erfassung und Analyse von Daten aus dem Abscheidungsprozess hilft. Diese Daten können verwendet werden, um die Parameter der Maschine anzupassen, um die Ergebnisse des Abscheidungsprozesses zu optimieren. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi ist ein leistungsstarkes Werkzeug, das die Abscheidung einheitlicher epitaktischer Schichten ermöglicht. Dieser Reaktor ist dank seines Mehrzonen-Injektors, sogar Heizzonen und des niedrigen Temperaturkoeffizienten hocheffizient ausgelegt. Darüber hinaus verfügt es über eine Reihe von Überwachungs- und Kontrollsystemen, die die Gleichmäßigkeit, Zuverlässigkeit und Qualität des Abscheidungsprozesses gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor