Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9150159 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi ist ein fortschrittlicher Reaktor, der entwickelt wurde, um Epitaxie (Wachstum dünner Schichten) von Halbleitermaterialien auf Substraten zu leiten und gleichzeitig eine überlegene Gleichmäßigkeit und Qualität des resultierenden Materials zu gewährleisten. Der AMAT Centura Epi Reaktor kann Materialien in einem Temperaturbereich von 200 ° C bis 900 ° C mit einer Gleichmäßigkeit von ± 5 ° C auf dem Wafersubstratkontakt anbauen. Es wurde speziell entwickelt, um die Fehlerdichte zu reduzieren und die Ausbeute während des gesamten Prozesses zu verbessern. Der Reaktor ist kompakt und kann in verschiedenen Halbleiter- und Materialbearbeitungsvorgängen eingesetzt werden. Es verfügt über ein fließfähiges Bett, das bis zu 200 Gramm Material aufnehmen kann, mit einem 3 "breiten Bett für größere Proben. Das Bett ist für eine gleichmäßige Verarbeitung des Substrats ausgelegt und bietet eine hohe Prozesskontrolle. Es ist mit einem Rezirkulationsventilator ausgestattet, der die Verarbeitungsbedingungen in der Kammer steuern kann. Das Instrument ist auch mit einem Hochtemperatur-Widerstandsheizer ausgestattet, der Hochtemperatur-Gleichmäßigkeit über das Substrat sorgt. Die Antriebseinheit ermöglicht eine genaue Steuerung der gleichmäßigen Strömung über die Kammer mit einem Bereich von bis zu 1200 W für den Ofen, so dass Hochtemperaturgleichförmigkeit und Prozessgleichförmigkeit gewährleistet sind. ANGEWANDTE MATERIALIEN Das Centura Epi-System verfügt auch über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen wie ein digital-visuelles Schnittstellendesign und eine verbesserte Bewegungssteuerung. Die Bewegungssteuerung ermöglicht eine genaue Kontrolle der Prozesszeiten sowohl im manuellen als auch im automatischen Modus. Es ist auch mit Echtzeit-Prozesssteuerung mit integriertem Feedback und Analysefunktionen ausgestattet, die eine bessere Prozessoptimierung und -steuerung ermöglichen. Insgesamt ist Centura Epi ein fortschrittlicher Reaktor für Epitaxie und andere Halbleiterprozesse, der es dem Anwender ermöglicht, die Substratverarbeitungsbedingungen genau zu steuern und eine überlegene Gleichmäßigkeit und Qualität des resultierenden Materials sicherzustellen. Seine kompakte Größe und seine fortschrittlichen Eigenschaften machen es zu einer idealen Lösung für Anwendungen in der Halbleiter- und Materialverarbeitungsindustrie.