Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9153770 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi ist ein fortschrittlicher plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidungsreaktor (PECVD), der zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Das Tool wurde entwickelt, um die Herstellung von Hochleistungsgeräten mit hohen Erträgen zu ermöglichen, so dass Kunden die Vielseitigkeit und die Kapazität, fortschrittliche Lithographie-Strategien zu implementieren. AMAT Centura Epi Ofen verfügt über eine doppelte Substrat-Prozesskammer, die eine gleichzeitige Verarbeitung von Substraten bei verschiedenen Temperaturen sowie zwei unabhängige Epi-Kammern mit jeweils eigenen Prozessgasen, Temperatur, Leistung und Druckregelung ermöglicht. Dieses Doppelkammerdesign bietet Anwendern einen höheren Durchsatz und eine breite Palette von Substrat- und Prozessoptionen, wobei die Kammer vollständig drucklos ist, um die Gleichmäßigkeit von Gas und Temperatur während des gesamten Verarbeitungszyklus aufrechtzuerhalten. Das Tool bietet eine modulare, kompakte Bauweise und eine flexible Integration mit anderen Prozessmodulen, die den Anwendern die höchste Kontrolle über den Prozess ermöglicht, von Wafer-Ebene bis Werkzeugebene. Die Kammer wurde für eine verbesserte Effizienz konzipiert und bietet konsistente Ablagerungen über eine breite Palette von Temperaturen und Prozessparametern, wodurch Anwender wiederholbare und zuverlässige Leistung sowohl für Ein- als auch Mehrkammer-Prozessrezepte. Die Konfiguration ist auch sehr vielseitig und kann einfach konfiguriert werden, um eine breite Palette von Filmabscheidungsfunktionen wie Geräte-Ebene Schichten, Wafer-Ebene Schichten, Device on Subscribe (DOS) Substrat Transfer und epi Transfer Schichten zu liefern. Darüber hinaus bietet die Kammer den Kunden die Möglichkeit, Spezialprozesse wie Reflow und Waferdünnung umzusetzen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Epi verfügt über eine Reihe weiterer Funktionen, die es Anwendern ermöglichen, ihre gewünschten Prozessparameter zu erreichen, einschließlich Quarzstrahler, Stickstoffspülung und Abschirmungsmerkmale. Darüber hinaus verfügt es über eine einzigartige Plasmabetätigungsanordnung, die eine gleichmäßige Schichtdicke und Geräteeigenschaften gewährleistet. Das Werkzeug ist kompatibel mit einer Reihe von Materialien, einschließlich Silizium, SiO2, SiN, Nitrid und Siliziumnitrid, und sein Design ermöglicht hohe Betriebstemperaturbereich und überlegene Abscheidung Gleichmäßigkeit, Verbesserung der Geräteausbeuten und Zuverlässigkeit. Das vielseitige Design von Centura Epi bietet auch die Flexibilität, die erforderlich ist, um fortschrittliche Prozessstrategien umzusetzen und die rechtzeitige Einführung neuer Gerätedesigns zu erleichtern.