Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9153809 zu verkaufen

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ID: 9153809
System (3) Chambers Standard gas cabinet Available: UHP Gas cabinet AccuSETT Control and nanovalves.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi ist ein hochleistungsfähiger, kostengünstiger Epitaxiereaktor für fortschrittliche Halbleiterbauelemente. Es verwendet eine fortschrittliche elektropolierende dielektrische Technologie, um dem Benutzer kostengünstige Lösungen für die Herstellung von Ultrahochfrequenz- und Leistungsgeräten bereitzustellen. AMAT Centura Epi kann sowohl für GaAs- als auch für Silizium-Epitaxieabscheidungsprozesse sowie Oxidabscheidungs- und Diffusionsglühprozesse eingesetzt werden. Es hat ein Split-Suszeptor-Design, mit einem geteilten Ring und schwenkbaren Tisch, sowie mehrere Gaseinlass- und -auslassöffnungen. Dies ermöglicht den unabhängigen Betrieb mehrerer Prozesse mit einer Sauerstoffanreicherungsmöglichkeit zur Durchführung der Wafer-zu-Wafer-Oxidation. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Epi ist für maximale Produktivität konzipiert, mit Hochgeschwindigkeitsdielektrizität und zwei Magnetronköpfen für eine effiziente Abscheidung von Schichtstrukturen. Es verfügt über eine hochauflösende Verschlusseinheit, die eine präzise Steuerung der Abscheideparameter ermöglicht. Es verfügt auch über luftgekühlte und wassergekühlte Elektroden sowie eine breite Palette von Kammer- und Spulenkomponenten, um Prozessanforderungen gerecht zu werden. Centura Epi Reaktor ist ein hochstabiles System, mit einer niederfrequenten Heizrate, um eine gleichmäßige Filmdicke zu gewährleisten. Seine kompakte Bauweise ermöglicht es, in enge Räume zu passen, während eine fortschrittliche Vakuumsteuerung optimierte Prozessbedingungen bietet. Der Reaktor verfügt zudem über eine präzise Temperaturregelung mit einem hochpräzisen Temperaturdetektor. Das System ist langfristig stabil und in der Lage, unter verschiedensten Verarbeitungsbedingungen zu arbeiten. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi Reaktor ist auch in der Lage, die Rückgewinnung und in situ Abscheidung komplexer Strukturen für extrem präzise Ergebnisse zu verarbeiten. Es wurde entwickelt, um ausgezeichnete Produktleistung und Umweltsicherheit zu bieten, was es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von fortschrittlichen Halbleiterbauelementen macht. Das System ist für die präzise Steuerung kritischer Parameter ausgelegt und bietet beispiellose Leistung für die fortschrittlichsten Halbleiterprozesse.
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