Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9236844 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi ist ein Typ eines epitaktischen Reaktors, der entwickelt wurde, um epitaktische Schichten von Materialien auf einem Substrat zu erzeugen. Die mit AMAT Centura Epi-Geräten hergestellten epitaktischen Schichten bieten überlegene Leistungseigenschaften als die, die durch andere Abscheidungsverfahren wie chemische Dampfabscheidung (CVD) und physikalische Dampfabscheidung (PVD) erreicht werden. Dieses System wurde entwickelt, um eine schnelle, zuverlässige und kostengünstige Methode zum Wachsen von epitaktischen Schichten mit gleichmäßiger Dicke und Zusammensetzung zu bieten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Einheit Centura Epi besteht aus zwei Hauptkomponenten, einer Reaktorkammer und einer Vakuummaschine. Die Reaktorkammer ist eine zylindrische Hochvakuumkammer mit einem beheizten Substrathalter, einer abgewinkelten Gasverteilungsplatte und im oberen Teil der Kammer angebrachten 4-6 Elektrodensystemen. Das Vakuumwerkzeug erzeugt durch eine Kombination aus Grobpumpen, Turbopumpen und Kryopumpen ein Vakuum in der Kammer. Centura Epi Asset kann mit einer Vielzahl von Prozessregelparametern und Substraten bei Temperaturen von bis zu 1000 ° C betrieben werden. Der Abscheidevorgang wird in der hochevakuierten Reaktorkammer durch Einbringen einer Reihenfolge von Reaktanden auf den Substrathalter eingeleitet. Der Prozessregler regelt den Fluss und die Zusammensetzung jedes Reaktanten. Die Reaktanten wirken über der Substratoberfläche zusammen und erzeugen eine epitaktische Schicht. Die Wachstumsrate der Schicht kann sowohl durch Einstellung der Reaktantenverhältnisse als auch der Temperatur des Substrats gesteuert werden. In einigen Anwendungen können auch Übergitter aus verschiedenen Materialien durch sorgfältige Steuerung des Reaktantenstroms gebildet werden. Das Modell AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi bietet eine hohe Abscheiderate, eine gute Dickengleichmäßigkeit bei geringer Partikelgröße und scharfe Schnittstellen. Es kann auch zur Dünnschichtabscheidung mit guter Materialselektivität verwendet werden. Dieses Gerät bietet eine gute Kontrolle über Verunreinigungen, geringe Oberflächenrauhigkeit und Niedertemperaturabscheidung, was es für empfindliche Materialien wie III-V-Nitride oder High-K-Dielektrika geeignet macht. Darüber hinaus ist das AMAT Centura Epi System wirksam für das schnelle Wachstum hochwertiger Epitaxieschichten auf Substraten verschiedener Größen. Der Ausgang dieser Einheit kann für viele Anwendungen wie Hochfrequenzgeräteherstellung, erweiterte Speicher-Flachbildschirme und Speichergeräte verwendet werden.