Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9238130 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi
ID: 9238130
Weinlese: 2006
Reactor (3) Chambers (AP / RP) 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi Reactors sind Gasepitaxiesysteme, die für den Betrieb im Pseudo-Batch-Modus für das Wachstum von planaren, komplexen oder zusammengesetzten epitaktischen Schichten entwickelt wurden. Der epi-Reaktor ist für die High-End-Epitaxieforschung und -produktion in Materialien wie Silizium, Germanium, Diamant und Zinkselenid konzipiert. Das Gerät verfügt über einen integrierten abstimmbaren Laser oder eine optische Emissionsspektroskopie (TLS/OES) zur Echtzeitüberwachung von Inhaltsstoffen im System und zur Erkennung von Reaktionsbedingungen im Reaktor. Dies verbessert die Leistungsfähigkeit des Geräts und macht es zu einer High-End-Produktion und bietet eine genaue Prozesskontrolle. AMAT Centura Epi Reactor ist im Reaktordesign der AMAT Pro Serie konzipiert. Dazu gehören Funktionen wie eine größere Quarz-Lastschloßkammer, ein großer bearbeiteter Waferbereich für einfachere Wafer-Manipulation und eine Pyrosil-Platte für robustes Wachstum. Die Pyrosil-Platte sorgt für eine gleichmäßige Verteilung der Reaktanten und volle Exposition gegenüber dem radialen Epitaxiebrenner. Die Pyrosil-Platte wird gegenüber dem zylindrischen Reaktordesign verbessert, was den durch den Radialbrenner verursachten Hotspot-Effekt eliminiert. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura Epi Reactor bietet auch eine Dual-Source Quarzbogenlampe zur Abscheidung auf einer breiten Palette von Materialien, die eine hohe Wiederholbarkeit für eine verbesserte Ausbeute und Prozesskontrolle ermöglicht. Außerdem bietet das Gerät einen Sechskanal-Massenstromregler zur präzisen Steuerung von Gasen, die in den Reaktor gelangen und eine High-End-Steuerung der aktiven Materialien in der Maschine ermöglichen. Damit eignet es sich ideal als effizientes Forschungs- und ertragsstarkes Produktionswerkzeug. Darüber hinaus bietet das Tool eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) und eine Process Sequencer-Architektur, die es Anwendern ermöglicht, den Wachstumsprozess kostbar zu steuern und gleichzeitig robuste und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ermöglicht die GUI Anwendern die einfache Anpassung einer Vielzahl von Asset-Einstellungen an die Anforderungen jedes Substrats und Wachstumsprozesses. Centura Epi Reactor ist in der Lage, High-Durchsatz, robuste und wiederholbare Produktion von High-End-Epitaxie-Schichten, während sicherzustellen, dass die Inhaltsstoffe im Modell genau überwacht und kontrolliert werden. Das Gerät bietet ein umfassendes Leistungsspektrum zur präzisen Steuerung des epitaktischen Wachstumsprozesses und sorgt für überlegene Ergebnisse. Dies macht AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi Reactor zu einer idealen Wahl für High-End-Epitaxie Forschung und Produktion.
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