Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Epi #9393367 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9393367
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
Reactor, 8"
Type: Silicon cluster plasma
(3) Chambers
External step down transformer
Flash memory drive
VSB Blowers
Accusette controller
Heat exchanger: Grade 1
Mainframe:
Wide body LL
ENP
Upper frame assembly
HP Robot
Transfer chamber
Power supply: 208 VAC, CB 300A
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Epi ist ein eigenständiger Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) -Reaktor, der für die Forschung und für die Herstellung von Abscheidungs- und Filmwachstumsanwendungen wie in der Photovoltaik- und Halbleiterindustrie verwendet wird. AMAT Centura Epi wurde entwickelt, um benutzerfreundlich, mechanisch und chemisch stabil und energieeffizient zu sein. Sein modularer Aufbau ermöglicht das Sputtern in drei verschiedenen Kammern, während MBE in einer vierten Kammer erreicht wird. Die gesamte Ausrüstung ist in einem kompakten luftdichten kompakten Rahmen enthalten, und die Kammerwände sind mit Deuteriumoxid (D2O) beschichtet, um die Verschmutzung von Folien zu mildern. Das System ist auf Vakuumniveau von 1.0E-9 Torr gebaut, während seine Ultra-High Vacuum (UHV) -Ebene eine Abscheidungsprozessrate von bis zu 20 Angström pro Sekunde mit einer Gleichmäßigkeit von bis zu 20 Prozent bietet. Die Ladefähigkeit der Einheit kann Proben bis zu 12 Zoll Durchmesser verarbeiten und ist für die Verarbeitung von Substraten bis zu 3 Zoll Durchmesser weiter einstellbar. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die mehrkanalige Quellensteuerung von Centura Epi ermöglicht die strukturierte Abscheidung von bis zu vier Elementen gleichzeitig, um epitaktische Strukturen auf Substratoberflächen zu erzeugen. Dieses Werkzeug verwendet auch eine Ventilschaltmaschine mit elektronisch gesteuerten Stromquellen und unabhängigen Prozesskammern, um maßgeschneiderte Folienwucherungen zu erzeugen. Das Werkzeug läuft auf DC- und HF-Stromquellen und ermöglicht das Wachstum von Mono- und Mehrschichtfolien. Wachstumsraten können über den automatischen Startmodus der Quellsteuerung und die Echtzeit-Parameteranzeigesteuerung gesteuert werden, um eine einheitliche Abscheidung zu gewährleisten. Die HF-Quellen sind mit Impedanzanpassungsmitteln und eingebauten Dämpfern ausgestattet, um an das Gleichstromflussverstärkermodell anzuschließen. Centura Epi ist auch mit einer Kühlausrüstung ausgestattet, um Temperaturen bis zu 300 Grad Celsius abzuleiten. Diese Temperatur kann auch in Echtzeit mit den eingebauten Thermoelementreglern des Systems überwacht werden. Eingebaute Armlehnen, Fußstützen und ergonomische Knöpfe sorgen für ein komfortables Arbeitserlebnis. Es ist wirklich das richtige Werkzeug für alle, die ultimative Prozesskontrolle in Folienwachstumsanwendungen suchen.
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