Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HDP #9163132 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9163132
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
CVD system, 8"
(2) HDP chambers
Narrow body load locks
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HDP-Ausrüstung ist ein Hochdichteplasma (HDP) -Reaktor, der zum Ätzen und Abscheiden verwendet wird. Der HDP-Reaktor verwendet ein gasbasiertes Verfahren, um eine plasmareiche Umgebung über der Waferoberfläche zu schaffen, um Submikronstrukturen zu erzeugen. Das System besteht aus einer Prozesskammer, Kammerwänden, Prozessproben, HF-Generator, HF-Match-Netzwerk, HF-Leistungsverstärker und Feuchtigkeitssteuergerät. Die Konstruktion des HDP-Reaktors basiert auf dem etablierten Konzept der konfokalen zylindrischen Geometrie. Die Prozesskammer besteht aus einer Reihe von verschachtelten zylindrischen Spulen, die ein starkes Magnetfeld innerhalb der Prozesskammer erzeugt. Dies ermöglicht eine bessere Kontrolle des Plasmas, da die Elektronen- und Ionendichten des Plasmas in der gesamten Kammer manipuliert werden können. Die HDP-Einheit nutzt zwei HF-Quellen, um das Plasma zu erzeugen: den HF-Generator und das HF-Match-Netzwerk. Der HF-Generator liefert die anfängliche Hochfrequenzleistung für das Plasma und das HF-Match-Netzwerk sorgt dafür, dass die Leistung bei der Stromversorgung effizient an die Kammerwände angepasst wird. Dies hilft bei der Erzielung einer gleichmäßigen Abscheidung und Ätzung auf dem Substrat. Die Temperatur innerhalb der Prozesskammer kann auch durch das HF-Match-Netzwerk überwacht und manipuliert werden, um einen konsistenten Prozess zu gewährleisten. Die Kammerwände der HDP-Maschine bestehen aus dielektrischen Materialien wie Quarz und Aluminiumnitrid, um die elektrische Isolation zwischen dem Plasma und den Kammerwänden zu maximieren. Dies bietet eine bessere Kontrolle über das Plasma und führt letztlich zu gleichmäßigeren Ablagerungen und Ätzungen auf der Substratoberfläche. Die Kammerwände sind außerdem mit einem peripheren Heizwerkzeug ausgestattet, mit dem die Temperatur der Prozesskammer gesteuert wird und ein konsistentes Plasma gewährleistet ist. Die HDP-Anlage verfügt auch über eine Feuchtigkeitssteuereinheit, die hilft, eine konstante relative Luftfeuchtigkeit (RH) in der Prozesskammer zu halten. Während des Prozesses muss der RH innerhalb der Kammer relativ stabil bleiben, um die Bildung von Plasmainstabilitäten zu verhindern. Insgesamt ist AMAT Centura HDP ein zuverlässiges und effizientes Plasmabearbeitungsmodell. Die verschachtelten zylindrischen Spulen der Ausrüstung, der HF-Generator, das HF-Übereinstimmungsnetzwerk und das periphere Heizsystem sorgen für eine gleichmäßige Abscheidung und Ätzung auf dem Substrat, während die Feuchtigkeitssteuereinheit hilft, einen stabilen RH-Pegel innerhalb der Kammer aufrechtzuerhalten. Dies hilft, konsistente Ergebnisse und einheitliche Strukturen auf dem bearbeiteten Substrat zu erzielen, wodurch die HDP-Einheit ideal für Submikronätzen und Abscheiden ist.
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