Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HDP #9188710 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HDP Reaktor ist ein High-Density-Plasma (HDP) -Gerät für den Einsatz in der Mikroelektronik-Produktion. Der Reaktor ist in der Lage, extreme Verarbeitungstemperaturen und Druckniveaus zu erreichen, was eine Vielzahl von Anwendungen in der Mikroelektronikindustrie ermöglicht. Das HDP-System verwendet eine magnetisierte zylindrische Plasmakammer, in der ein Gemisch aus Inertgas und Prozessgas mit einer Hochleistungs-Hochfrequenzquelle erhitzt und ionisiert wird. Die von der Hochfrequenzquelle gelieferte Energie erregt die Gaspartikel, die wiederum ihre Energie durch Rekombination freisetzen und so langlebiges nichtthermisches Plasma bilden. Mit dem Plasma wird dann ein Substrat aus verschiedenen Materialien mit höchster Genauigkeit geätzt, abgeschieden oder anderweitig bearbeitet. Der AMAT Centura HDP Reaktor ist für den Einsatz in Mikrokreisherstellungsprozessen konzipiert und bietet eine überlegene Kontrolle über die Prozessparameter, was höhere Substratleistungen ermöglicht. Die effiziente Kühleinheit und die geringe Ausgasung ermöglichen verschiedene Prozessoptionen für Nassreinigungs-, Trockenätz- und Oxidationsprozesse. Die Maschine bietet auch mehrere Sicherheitsfunktionen, die einen effizienten Betrieb in einer Umgebung mit mehreren Bedienern ermöglichen. Das fortschrittliche Diagnosetool ermöglicht eine präzise Überwachung der Prozessparameter und ermöglicht eine kontinuierliche Optimierung. Darüber hinaus verwendet die Anlage einzigartige Antennendesigns für verbesserte Präzision sowie fortschrittliche Abschirmungstechnologie für reduzierte Geräuschpegel. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura HDP Reaktor produziert präzise, leistungsstarke Substrate im mikroelektronischen Herstellungsprozess. Möglich wird dies durch seine präzise Leistungsregelung, überlegene Prozesssteuerung und geräuscharmen Betrieb. Diese Merkmale werden von automatisierten Reinigungsprozessen und geschlossenen Sicherheitssystemen begleitet, die ein Höchstmaß an Substratleistung gewährleisten. Der Reaktor verfügt zudem über eine benutzerfreundliche Schnittstelle und mehrere Datenerfassungsfunktionen, die optimierte Ergebnisse ermöglichen. Damit kann das Modell in Anwendungen eingesetzt werden, die von den Anforderungen an die Forschung mit niedrigem Durchsatz bis hin zur Produktion von Mikroelektronik mit hohem Volumen reichen.