Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HDP #9233062 zu verkaufen

ID: 9233062
Weinlese: 2000
CVD System, 8" NBLL (3) Chambers STP-A2203 Turbo molecular pump ENI RF Generator 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HDP ist ein Hochdichteplasma (HDP) -Ätzreaktor, der für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde und Bauelementmerkmalsgrößen unterhalb des kritischen Dimensionsregimes von 1 µm liefert. Die HDP-Ausrüstung verwendet eine dreizehnstufige Prozesskammer auf Wasserstoffbasis, um extrem einheitliche, kleine Merkmale mit minimalem Überätzen zu erzeugen, was eine bessere Geräteleistung ermöglicht. Der Reaktor bietet eine ausgezeichnete Prozessflexibilität mit einer Vielzahl von Rezeptsteuerungsoptionen, so dass er für eine Vielzahl von Anwendungen wie Photoresists Musterung, High-K-Dielektrika Ätz- und Kupferentfernung verwendet werden kann. Das HDP-System ermöglicht ein uneingeschränktes, dreidimensionales Ätzen von Strukturen, wodurch hohe Seitenverhältnisse mit hervorragender Wiederholbarkeit hergestellt werden können. Darüber hinaus soll das Gerät Partikelemissionen und flüchtige Nebenprodukte reduzieren, um einen sicheren und sauberen Betrieb zu gewährleisten. AMAT Centura HDP nutzt zwei angeschlossene Komponenten, die Endura Multi-Chamber Ätzmaschine und das Transfermodul. Das Endura-Werkzeug besteht aus einer Reihe von Kammern, die eine mehrstufige Abscheidung, Ätzung und Reinigung von Prozessen ermöglichen, ohne die Kette der Prozessschritte zu unterbrechen. Die Anlage verfügt über 13 Kammern, darunter eine Prozesskammer, einen gekühlten Ätzrevolver, eine Quarzkaltwand und ein Reaktionsrohr zur Waferübertragung. Durch die Verwendung fortschrittlicher HF-Netzteile können Rezepte präzise gesteuert werden, um eine hochdichte Plasmatechnologie zu ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht ein Auto Endpoint Detection-Modell die Vor-Ort-Überwachung des Prozesses und ermöglicht einen maximalen Durchsatz bei minimaler Wartung. Das Transfermodul enthält eine Wafertransporteinrichtung, die ein schnelles Be- und Entladen von Wafern ermöglicht. Das System verfügt auch über eine zentrale Verdrahtungssteuerung, eine Sicherheitsverriegelung und eine spezielle Kühleinheit, um eine sichere und zuverlässige Verarbeitung von Wafern zu gewährleisten. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer Kühlplattenreinigungsstation, einer kühlen Gasquelle, einer Remote-Computerschnittstelle und benutzerdefinierten Rezepten ausgestattet. Letztlich ist APPLIED MATERIALS Centura HDP ein vielseitiger, effizienter HDP-Ätzreaktor für die Halbleiterverarbeitung. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und strenge Kontrolle über Rezepte ermöglicht die Herstellung von ultra-kleinen Gerätefunktionen, zusammen mit minimierten Emissionen für eine sichere und zuverlässige Arbeitsumgebung.
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