Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9266126 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD (Physical Vapor Deposition) Reaktor ist ein hochmoderner Reaktor zur präzisen Abscheidung von Volldeckungsfilmen aus Metallen, Legierungen und Verbindungen auf Halbleiterscheiben. Dieser Reaktor verfügt über eine integrierte gepulste Gleichstromquelle, die Flusssteuerung, verbesserte Gleichförmigkeit und reduzierte Schäden durch energetische Radikale bietet. AMAT Centura HP PVD-Reaktor kann Metalle, Silizide, Dielektrika und andere Materialien auf Waferoberflächen abscheiden und ihnen zusätzlichen Schutz vor Korrosion und anderen Schäden geben. Es wurde auch mit zusätzlichen Sicherheitsmerkmalen wie einem Roboterarm, einem Verschluss, einem Abschirmgasversorgungssystem, einem Druckaufnehmer mit Überwachungs- und Steuerungsfunktionen und Notabsperrventilen konzipiert. Der Reaktor besteht aus drei Hauptuntersystemen: Prozesskammer, Biasgenerator und Duschkopf. Die Prozeßkammer ist eine mit wärmeübertragendem Pyrolytgraphit oder W-C beschichtete Quarzkammer, die auf bis zu 1000 ° C erwärmt werden kann. Diese Kammer ist mit bis zu 400 Wafern beladen und kann eine Vielzahl von Targetmaterialien aufnehmen. Der Bias Generator wird verwendet, um das Plasma durch Variation der Vorspannung zum Ziel zu steuern. Dieser Generator ermöglicht eine gleichmäßige Filmabscheidung über alle Wafer in jeder einzelnen Charge sowie eine präzise Schichtdickenregelung. Der Duschkopf kann verwendet werden, um eine Dusche von Vorläufergasen oder Ionenstrahlen zu injizieren, um Abscheidungen von Metallen, Legierungen und Verbindungen mit kontrollierten Geschwindigkeiten zu ermöglichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura HP PVD Reactor ist ein hocheffizientes Werkzeug, um eine Vielzahl von Filmen auf Substratmaterialien abzuscheiden. Seine hitzebeständige Kammer und die präzise gesteuerte Gleichspannungsquelle ermöglichen die Abscheidung von Folien mit wesentlich höheren Geschwindigkeiten als herkömmliche PVD-Reaktoren, was die Produktivität und den Durchsatz verbessert. Die Wafer-Kompatibilität dieses Systems wird durch seinen vielseitig einsetzbaren Showerhead weiter ausgebaut, und seine In-situ-Prozesssteuerung und automatisierten Notabschaltventile ermöglichen einen sicheren und effizienten Betrieb. Centura HP PVD Reactor ist ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug zum Abscheiden von einheitlichen, voll abdeckenden Filmen und ist eine ausgezeichnete Wahl für jede Halbleiterherstellungsanlage.