Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9266424 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9266424
Weinlese: 1995
Sputtering system, 6"
Chamber type:
Chamber A: AL
Chamber B: AL
Chamber C: PC-II
Chamber D: TiTiN
Chamber E (Orient / Degas)
Chamber F (Orient / Degas)
Chamber A:
Heater type: 4F
Source type: 11.3"
Body: STD
Adaptor: STD
Manometter: Single 0.1 torr (6274A)
Ion gauge: Nude
Lift cylinder: STD
Basic motorize
Gate vavle: 2P
Cryo pump: EHN-OB8F
Chamber B:
Heater type: 4F
Source type: 11.3"
Body: STD
Adaptor: STD
Manometter: Single 0.1 torr (6274A)
Ion gauge: nude
Lift cylinder: STD
Basic motorize
Gate vavle: 2P
Cryo pump: EHN-OB8F
Chamber D (PVD):
Heater type: 101
Source type: 11.3"
Body: STD
Adaptor: STD
Manometter: Single 0.1 torr (6274A)
Ion gauge: nude
Lift cylinder: STD
Basic motorize
Gate vavle: 3P
Cryo pump: EHN-OB8F
Chamber C (PC-II):
Resonator: STD
Body: Turbo
Basic pedestat
Turbo adaptor: Short
Manometter: Single 0.1 torr (6274A)
LEYBOLD 361C Turbo pump
Match box: 6"
Lift cylinder
Electrical requirements:
Controller type: Centura standard
Electrical interface: Top feed AC cable
Main frame:
Type: Main frame I
System placement: Stand alone
Robot type: HP Robot
Robot blade: NICKEL Coated AI
Loadlock:
Loadlock cassette: Wide body
Index type: With rotation
Cassette handler: Metal
Basic loadlock wafer mapping
Dual stage vent type
Gas delivery:
Filters:
Veriflo 10 Ra Max
Pall
Generator:
Chamber A:
MDX Power: MDX-L12-650
Chamber B:
MDX Power:
MDX-L12M
MDX-L12
Chamber C: LF-10A Generator
CPS-1001S Missing
Chamber D:
MDX Power: MDX-L12
NESLAB-I Heat exchanger
(2) 9600 Compressors
Umbilicals:
MF - AC rack: 300"
Pumps:
System: A30W
PC-II: A07
Includes:
Serial isolator
System reset
Lk Det 5 and 6 / Conv / TC
(3) Lk Det 7 and 8 / Conv / TC
Floppy Disk Drive (FDD)
Hard Disk Drive (HDD)
Chamber A, B, C, D & E: Interface
Mainframe interface
Loadlock interface
Chamber A, B, C & D:
Dl/O 1
Dl/O 2
Chamber E: Dl/O
Synergy SBC
Video
SEI
Chamber A, B, C & D: Al/O
Chamber E/MF: Al/O 2
Mainframe:
Al/O 1
Dl/O 1
Dl/O 2
Dl/O 3
Dl/O 4
Dl/O 5
Dl/O 6
(3) Steppers
OMS
No shutter (Chamber A, B & D)
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD (Physical Vapor Deposition) Reaktor ist ein Abscheidungsgerät der nächsten Generation, das entwickelt wurde, um fortschrittliche, hochleistungsfähige Dünnschichtabscheidungsfähigkeiten bereitzustellen. Dieses innovative System liefert verschiedene Ablagerungsrezepte durch mehrere Werkzeuge und Kammern und ist für erhöhte Prozessflexibilität und Produktionseffizienz optimiert. AMAT Centura HP PVD Reaktor ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien abzuscheiden, einschließlich, aber nicht beschränkt auf Kupfer, Aluminium, Titannitrid und Wolfram. Es verwendet mehrere, wählbare Gase und Inertgase, um die Materialquelle genau zu steuern und die perfekte Umgebung und den für eine optimale Dünnschichtabscheidung erforderlichen Druck zu schaffen. Der Select Source™ (SS) Linearbeschleuniger und die Turbo- Pumped™ Stromquelle (TPP) sorgen dafür, dass die für den Prozess benötigten Blinddrücke und Temperaturen erhalten bleiben. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die PVD-Einheit Centura HP verfügt zudem über ein temperaturgeregeltes Abhebe-/Ätzmodul mit integriertem Hochtemperaturbacken. Dieses Modul ist so konzipiert, dass es die Temperatur um das Substrat während des Abhebe- und Ätzprozesses automatisch steuert, um die Auswirkungen unerwünschter thermischer Kontakte zu minimieren. Es verfügt auch über einen schnell-thermischen Scan, um das Filmwachstum und die Ätztiefe genau zu profilieren. Abgesehen von seinen hervorragenden PVD-Fähigkeiten ist der Centura HP PVD-Reaktor so konzipiert, dass er überlegene Verfügbarkeit und Produktivität bietet. Die modulare Konfiguration der Maschine ermöglicht ein schnelles und einfaches Laden von Werkzeugen und verfügt über eine leistungsstarke Software und eine grafische Benutzeroberfläche, die von Bedienern jeder Kompetenzstufe einfach verwendet werden kann. Das Tool kommt auch mit einer automatisierten Rezeptur-Funktion, die den Ablagerungsprozess vereinfacht, indem Benutzer Zeit und Aufwand sparen. Insgesamt ist der AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD Reaktor eine fortschrittliche Abscheidung, die hervorragende Dünnschichtabscheidungsfähigkeiten und überlegene Prozessflexibilität bietet. Sein temperaturgesteuertes Abhebe-/Ätzmodul, Select Source Linearbeschleuniger, Turbo-Pumped Stromquelle und automatisierte Rezeptur-Funktion machen es zu einem idealen Werkzeug für die Hochleistungs-Dünnschichtabscheidung.
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