Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura HP PVD #9276863 zu verkaufen

AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD Reaktor ist eine chemische Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung speziell entwickelt, um eine einheitliche, Hochleistungsschicht Abscheidung von einer Vielzahl von Materialien zu bieten. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Metallen abzuscheiden, einschließlich Aluminium, Wolfram, Titan, Kupfer und andere Legierungen in einem einzigen Arbeitsgang oder in mehreren Schichten. Das System nutzt eine innovative Hochleistungs-Tiegel unterstützt CVD (IHPCVD) -Technik, die überlegene Schicht Homogenität und Gleichmäßigkeit bei Abscheidungsraten bietet, die bis zu dreimal schneller als herkömmliche PVD-Systeme sind. AMAT Centura HP PVD kann eine breite Palette von Materialzusammensetzungen bis zu Schichten 6mm dick, mit hervorragender Konformität abscheiden. Das Gerät ist extrem zuverlässig und verfügt über eine schnelle thermische Zykluszeit für eine schnelle Wende. Es kann leicht in eine Mehrkammermaschine integriert werden, um einen hocheffizienten Durchsatz zu erzielen. Das CVD-Verfahren für APPLIED MATERIALS Centura HP PVD wird von einem gasinjektionsheizten computergesteuerten Filtrationswerkzeug angetrieben. Dies ermöglicht die Erzeugung einer genau definierten Prozessatmosphäre innerhalb der Abscheidekammer bei gleichbleibender Zufuhr von Reaktantgasen und genauer Kontrolle der chemischen Reaktion. Die Reaktantgase werden durch einen im Zentrum des Reaktors befindlichen gefilterten Gaseinlaßkrümmer eingeleitet. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Gasverteilung innerhalb der Prozesskammer und ermöglicht es dem Modell, die Reaktantenzusammensetzung in Echtzeit einzustellen, um eine optimale Verteilung und Abscheidung zu gewährleisten. Ein proprietäres Mehrzonen-Prozesskammerdesign bietet zusätzliche Gleichmäßigkeit und Kontrolle der Schichtdicke und Zusammensetzung über die Substratoberfläche. Diese Kammer verwendet beheizte Wände, um eine breite Gleichmäßigkeit der Abscheidung über den gesamten Substratbereich zu gewährleisten, und bietet gleichzeitig die Flexibilität, das Substrat zu „kippen“, um verschiedene Schichtdicken zu erreichen. Darüber hinaus sorgt eine fortschrittliche Schichtkontrollausrüstung für Prozessgenauigkeit und maximale Leitfähigkeit. Der Ofen ist mit einer Stickstoffeinlaßkammer ausgestattet, die eine gleichmäßige Stickstoffströmung im Inneren der Kammer ermöglicht, wodurch das System bei hohen Temperaturen und Drücken arbeiten kann, ohne die Sicherheit oder Integrität der Kammer zu beeinträchtigen. Centura HP PVD ist in der Lage, eine breite Palette von Materialzusammensetzung, Dicke, Geometrien und Funktionen mit unübertroffener Genauigkeit und hohem Seitenverhältnis abzuscheiden. Das Gerät verfügt über eine schnelle thermische Zykluszeit und Serienproduktionsmöglichkeiten bis zu 2,2 Liter, die es ideal für die Serienproduktion machen. Schließlich ermöglicht die Robustheit der Maschine den Betrieb in korrosiven und Hochtemperaturumgebungen. All diese Eigenschaften machen APPLIED MATERIALS/AMAT/APPLIED MATERIALS Centura HP PVD zu einem zuverlässigen und leistungsstarken Abscheidungswerkzeug, das einheitliche und wiederholbare Beschichtungen für eine Vielzahl von Anwendungen liefert.