Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I DPS+ #159104 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 159104
Poly etcher, 8"
Chamber Type
CH.A DPS Poly
CH.B DPS Poly
CH.C DPS Poly
CH.D
CH.E
CH.F Oriental
Robot type: HP
Process kit: 200MM JMF Process Kit
Chuck Type: C-ESC
Loadlock: Heated narrow body
Turbo Pump: SEIKO SEIKI STP-A2203PV )
RF Generator:
Source: AE RF5S
Bias: RFPP RF5S
RF Match: Match (P/N 0010-36408)
EPD: Monochrometer
Computer: CRT Monitor 3ea
Gas:
Gas panel: Seliplex gas panel
MFC: Aera FC-D980C
Gas Configuration:
Chamber A Chamber B Chamber C
Gas Size Gas Size Gas Size
Line 1 Cl2 50 Cl2 50 Cl2 50
Line 2 Cl2 200 Cl2 200 Cl2 200
Line 3 HBr 200 HBr 200 HBr 200
Line 4 O2 10 O2 10 O2 10
Line 5 O2 500 O2 500 O2 500
Line 6 N2 10 N2 10 N2 10
Line 7 CF4 100 CF4 100 CF4 100
Line 8 SF6 50 SF6 50 SF6 50
Line 9 Ar 200 Ar 200 Ar 200
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I DPS + Reactor ist ein revolutionäres Gerät, das entwickelt wurde, um qualitativ hochwertige Halbleiterabscheidungs- und Ätzlösungen in einer All-in-One-Anlage bereitzustellen. Diese Ausrüstung ist in der Lage, außergewöhnlich genaue und präzise Filmabscheidungs- und Ätzprozesse zu erzielen, so dass Anwender die besten Halbleiter in der Industrie produzieren können. AMAT Centura I DPS + Reactor ist ein automatisiertes System mit einer branchenführenden Plattform, die fortschrittliche Technologien umfasst, einschließlich präziser Temperatur- und Drucküberwachung, dynamischer Wafermanipulation und reichhaltiger Plasmaquellen zum Ätzen und Abscheiden. Der Reaktor kann einfach konfiguriert werden, um eine Vielzahl von Reaktionen unterzubringen, was es für viele Benutzer in der Halbleiterindustrie vorteilhaft macht. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura I DPS + Reactor verfügt über eine fortschrittliche Gasliefereinheit, mit der Benutzer unglaubliche Genauigkeit erzielen können. Die Maschine verfügt über eine aktive Steuerung der Abscheide- und Ätzbedingungen und bietet eine präzise Steuerung von Temperatur-, Druck- und Zellparametern. Das Gerät verwendet außerdem eine effektive Plasmaquelle zum Ätzen und Abscheiden, die eine präzise Kontrolle der Reaktivität und Abscheiderate ermöglicht. Das Werkzeug integriert zusätzlich flexible Wafer-Manipulation, so dass es die Fähigkeit, Prozesse wie Laserablation, Kantenfasenbearbeitung, Konformitätsprüfung und mehr zu handhaben. Die fortschrittlichen Optik- und Automatisierungsfunktionen des Reaktors gehen weit über seine Gasförder- und Plasmaquellenfunktionen hinaus. Centura I DPS + Reactor bietet Anwendern unglaubliche Automatisierungsstufen mit Funktionen wie automatisierte Rezeptoptimierung, integrierte Ofensteuerung und vollständiger Web-basierter Fernzugriff. Dank der Integration des Centura Netzwerks mit dem Reaktor können Anwender die Vorteile leistungsstarker Prozessanalyse und Automatisierungsfunktionen nutzen. Diese Integration ermöglicht eine präzise Datenerfassung und -analyse, so dass Benutzer unerwünschte Trends erkennen und optimieren können, was zu verbesserten Prozessergebnissen führt. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I DPS + Reactor ist eine hochentwickelte reaktive Abscheidung und Ätzanlage, die leicht in eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen integriert werden kann. Dank seiner hochautomatisierten und präzisen Modellkomponenten können Anwender dieses Reaktors konstante Ergebnisse erzielen und ihre Fertigungszykluszeit reduzieren und gleichzeitig die Qualität verbessern. AMAT Centura I DPS + Reactor ist eine ideale Wahl für den anspruchsvollen Halbleiterherstellungsingenieur und bietet eine fortschrittliche Plattform, die außergewöhnliche Leistung bietet.
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