Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I DPS #9093401 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I DPS
ID: 9093401
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Poly Etcher, 8", 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I DPS (Diffusion Pressure Equipment) ist ein fortschrittlicher Halbleiterverarbeitungsreaktor, der für fortgeschrittene Halbleiteranwendungen wie Single Wafer Processing, Low/High Dielectric Etch und Metal Deposition verwendet wird. AMAT Centura I DPS wurde entwickelt, um den Anforderungen der modernsten Halbleiterverarbeitungsanwendungen gerecht zu werden und kann verwendet werden, um eine breite Palette von Probengrößen sowie Formen in einer einzigen Verarbeitungskammer zu erstellen, zu pflegen und zu verwalten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura I DPS ist ein Einzel-Wafer-Reaktor, der ein Diffusionsdrucksystem verwendet, um die notwendige Umgebung für die Verarbeitung zu schaffen, während der Druck und die Migration von Materialien kontrolliert werden, um das Beste aus dem Prozess zu machen. Das Gerät verfügt über einen hohen Temperaturbereich für die lokale thermische Oxidation (obwohl es den im Prozess verwendeten Materialien und der Anzahl der gleichzeitig verarbeiteten Geräte unterliegt). Centura I DPS bietet eine Reihe von Ofeneigenschaften wie Heiz- und Kühlgeschwindigkeiten, Temperaturgleichmäßigkeit, überlegene Wafer-Werkzeuge, mehrere Wafer-Ladefunktionen und zahlreiche Beispielgrößen. Die Maschine ist in der Lage, durch den Einsatz eines Diffusionsdruckwerkzeugs eine effizient verwaltete Atmosphäre zu schaffen, die es dem Benutzer ermöglicht, die Bewegung und Migration von Materialien zu steuern. Darüber hinaus verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I DPS auch über eine Kühleinrichtung, die hilft, die Temperaturen so schnell wie möglich zu reduzieren und sicherzustellen, dass das zu bearbeitende Gerät nicht beschädigt wird. Es ist auch mit einer ausgeklügelten Prozessüberwachung konzipiert, die es den Betreibern ermöglicht, sicherzustellen, dass die Umgebung und Parameter des Modells während des Prozesses innerhalb der gewünschten Parameter bleiben. AMAT Centura I DPS verfügt auch über eine Vielzahl von kompatiblen Ausgangsmaterialien, die mit der Ausrüstung einschließlich polykristalliner Stäbe, Metallstücke und andere verwendet werden können. Mit geeigneten Ausgangsmaterialien in Kombination mit seinem schnellen thermischen Zyklus ist APPLIED MATERIALS Centura I DPS eine effiziente und überlegene Wahl für fortschrittliche Diffusionsprozesse. Abschließend ist Centura I DPS ein fortschrittlicher Halbleiterverarbeitungsreaktor, der für einzelne Waferbearbeitungsanwendungen optimiert ist. Das System verfügt über einen hohen Temperaturbereich für die lokale thermische Oxidation, eine Diffusionsdruckeinheit zur Unterstützung des Prozesses und eine Kühlmaschine, um die Temperaturen so effizient wie möglich zu reduzieren. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I DPS bietet auch kompatible Ausgangsmaterialien für eine Vielzahl von Prozessen. Die ausgeklügelte Prozessüberwachung sorgt für eine sichere und zuverlässige Fertigung der Mikroelektronik. Dieses Asset ist eine überlegene Wahl für jede fortschrittliche Halbleiterverarbeitungsanwendung.
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