Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I P1 #9133087 zu verkaufen
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ID: 9133087
WxZ system, 6"
Chamber Type/ Location
Position A WXZ
Position B WXZ
Position C WxP
Position D WxP
Position E MULTE COOLDOWN
Position F ORIENTER
Electrical Requirements
Line Voltage 200/208 VAC
Line Frequency 50~60 Hz
System Safety Equipment
EMO Guard Ring INCLUDED
Water and Smoke Detector ALARM
System Labels ENGLISH with Chinese simplified
Wxz Chamber Options
Bias Generator STANDARD ENI 12B3
Slit Valve Oring STANDARD
Throttle Valve STANDARD THROTTLE
Wxz Chamber Options
Bias Generator STANDARD ENI 12B3
Slit Valve Oring STANDARD
Throttle Valve STANDARD THROTTLE
Wxz Chamber Options
Bias Generator STANDARD ENI 12B3
Slit Valve Oring STANDARD
Throttle Valve STANDARD THROTTLE
Wxz Chamber Options
Bias Generator STANDARD ENI 12B3
Slit Valve Oring STANDARD
Throttle Valve STANDARD THROTTLE
Orienter Chamber Options
Chamber Type MULTE COOL DOWN
Pallet Options
General Mainframe Options
Facilities Type REGULATED
Facilities Orientation MAINFRAME FACILITIES BOTTOM CONNECTION
Weight Dispersion Plates Mainframe And Remote
Chamber Flow Switch Options
Loadlock/Cassette Options
Loadlock Type Narrow Body AUTO ROTATION
Loadlock Platform UNIVERSAL
Cassette Type Supported 200 mm
Loadlock Cover Finish ANTI-STATIC PAINTED
Loadlock Slit Valve Oring Type VITON
Wafer Mapping ENHANCED
Integrated Cassette Sensor YES
Transfer Chamber Options
Transfer Ch Manual Lid Hoist YES
Robot Type HP
Robot Blade Option ROUGHENED AL BLADE
Wafer On Blade Detector BASIC
Loadlock Vent BOTTOM VENT
System Controller
Controller Type
Cntrlr Electrical Interface BOTTOM FEED
Controller Exhaust TOP EXHAUST
System Monitors
System Monitor 1 STANDALONE
Monitor Cursor BLINKING CURSOR
AC Rack
Controller Facility Interface REMOTE UPS INTERFACE ONLY
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I P1 ist ein Einzelwafer-Clusterwerkzeug für die Halbleiterherstellung. Es wurde entwickelt, um einen einzigartigen, niedrigen Temperatur flachen Graben Isolation (STI) Prozess zu schaffen, um Gerätespannung durch Polieren, Ätzen und Vakuumverarbeitung zu reduzieren. Dieser Reaktor unterstützt sowohl Low-K als auch dielektrische Polierprozesse und ermöglicht Gerätestrukturen mit erhöhter Skalierbarkeit und verbesserter Leistung. Es verfügt auch über einen fortschrittlichen Wafer-Transfer-Mechanismus für verbesserte Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Prozessschritte während der Herstellung. AMAT Centura I P1 Reaktor ist ein thermisch-chemisches Oxid (TCO) Cluster-Tool entwickelt, um eine Hochleistungs STI-Lösung zur Verfügung zu stellen und gleichzeitig nachteilige Umwelt- und Herstellungsrisiken zu mindern. Herzstück des Werkzeugs ist ein DEIONIZED WATER (DI) Ultrashower, der ein präzises und wiederholbares Wafertemperaturprofil während der Bearbeitung gewährleistet. Das Werkzeug führt einen Fluss von DI und einen bestimmten Satz gasförmiger Vorläufer aus, um isolierte Gräben oder Gruben im Wafer zu bilden. Das Ergebnis ist ein wirklich einheitlicher STI-Prozess im Wafer-Maßstab, der die Belastung der Geräte reduziert und die Leistung erhöht. Angewandte Materialien Centura I P1 Reaktor ist auch mit einem Low Temperature End-Point Detektor (LTEP) ausgestattet, der den Endpunkt des Prozesses genau misst. Das LTEP behält eine voreingestellte Einheitlichkeit für den STI-Prozess bei, was zu sauberen, wiederholbaren und einheitlichen Ergebnissen führt. Das Werkzeug bietet auch eine Low-K-Polierfähigkeit, die die parasitäre Kapazität zwischen benachbarten Transistorknoten reduziert. Dies ist ein wichtiger Prozess für Gerätestrukturen, die mehr Skalierung und verbesserte Leistung benötigen. Das Werkzeug ist auch mit einem fortschrittlichen Waferübertragungsmechanismus ausgestattet, der das einfache Be- und Entladen von Wafern erleichtert. Es bietet eine vertikale Waferausrichtung für eine genauere Nachführung der Waferkanten während des Prozesses, wodurch die Wafer-zu-Substrat-Wiederholbarkeit verbessert wird. Centura I P1 Reaktor ist ideal für diejenigen, die kostengünstige und leistungsstarke STI-Prozessanwendungen benötigen. Mit seinen Low-K-Polier- und Waferübertragungsfähigkeiten ist es ein kostengünstiges und zuverlässiges Werkzeug für diejenigen, die ertragskritische, stressreduzierte, konstant wiederholbare und einheitliche STI-Ergebnisse benötigen.
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