Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I Super-E #293656525 zu verkaufen

ID: 293656525
CVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I Super-E Reactor ist ein kritisches Gerät für chemische Verarbeitungsanwendungen und für die Forschung und Entwicklung neuer Materialien. Es wurde entwickelt, um Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 6 "zu bearbeiten und eine bessere Umweltkontrolle und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Das Gerät ist hochfunktional und vereint eine Vielzahl von Funktionen und Fähigkeiten für eine effiziente Waferbearbeitung. Der Reaktor ist mit einer einzigen Waferkammer mit einer von einem Temperaturregler gesteuerten Temperatur ausgestattet. Die Kammer kann bis zu 1100 ° C (2012 ° F) erwärmt werden. Der AMAT Centura I Super-E Reaktor verfügt zudem über eine ultrahochfrequente HF-Heizquelle zur präzisen Energiesteuerung. Ein digitaler Bildschirm zeigt die Verarbeitungstemperatur und Parameter. Der Reaktor verfügt über eine Ultrahochvakuumumgebung, um sicherzustellen, dass die Prozessergebnisse nicht durch atmosphärische Gasverschmutzung beeinflusst werden. Es kommt auch mit mehreren Gaseinspritzsystemen, die den Prozess flexibler und hochgenauer machen. Das System verwendet digitale Signalverarbeitung elektronische Hardware mit einstellbaren Funktionen, um die Heizenergie zu überwachen und genau zu steuern. Es verfügt auch über eine unterbrechungsfreie Stromversorgung, die ein konsistentes Prozessergebnis gewährleistet. Darüber hinaus verfügt APPLIED MATERIALS Centura I Super-E über einen Notabschalter, der die Sicherheit im Falle einer Störung der Einheit gewährleistet. Die Maschine verfügt auch über ein He-Purge Tool, das einen konstanten Fluss von Inertgas bietet, um vor Oxidation zu schützen und die Prozesskontrolle zu fördern. Insgesamt ist der Centura I Super-E Reactor eine gute Wahl für Waferbearbeitungsvorgänge und bietet eine große Zuverlässigkeit, Genauigkeit sowie Umwelt- und Sicherheitskontrolle. Das Asset ist auch ziemlich einfach zu bedienen und zu warten und kann aktualisiert werden, um eine optimale Leistung für jede Anwendung zu gewährleisten.
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