Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9093472 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA I Reaktor ist eine hohe Temperatur, Halbleiterverarbeitungsanlage der chemischen Dampfabsetzung (CVD). Es ist für die Abscheidung von dielektrischen und leitenden Filmen auf Wafersubstraten ausgelegt. Der AMAT Centura I Reaktor ist ein thermisch isoliertes Kastensystem, das als effiziente und zuverlässige Plattform für die Halbleiterherstellung konzipiert wurde. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura I ist mit einer horizontalen Kammer und einem vertikalen Ventilkrümmer ausgestattet, die beide in einem Edelstahlgehäuse untergebracht sind. Das Gerät nutzt Hochtemperatur-Prozessgasströme und kann bis zu 300 mbar Betriebsdruck aufweisen. Darüber hinaus ist die Kammer mit einer elektronenstrahlbehandlungsbeständigen Schicht beschichtet, um die Hot-Spot-Temperaturen zu reduzieren und die E-Strahl-Bestrahlungsschäden zu minimieren. Centura I bietet auch eine Reihe von innovativen Funktionen und erweiterten Prozessfunktionen, wie intuitive Softwareschnittstelle, integrierte automatische Zentrierung, In-situ-Backup und prozesssteuerende Automatisierungsfunktionen. Diese Maschine verfügt auch über eine Echtzeit-Visualisierung des Prozesses und die Fähigkeit, Gasfluss und Druckniveaus für eine genaue Abscheidungssteuerung zu steuern. Das Werkzeug besteht aus einer auswechselbaren Suszeptorplatte mit sehr gleichmäßiger Energieverteilung. Diese Platte besteht aus einer Graphitplatte, die elektrisch beheizt ist und als Montagefläche für das Substrat dient. Diese Suszeptorplatte wird vor Beginn des Abscheideprozesses vorgeheizt und sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung. Der Vermögenswert wird mit einem Hochleistungspositionierungsmodell ausgestattet, das das Substrat überall im Absetzungszyklus mit einer maximalen homogenen Geschwindigkeit von 10 cm/s bewegt. Darüber hinaus kann das Gerät die thermisch induzierten Bewegungen des Substrats kompensieren und ist mit einem speziellen Verriegelungsmechanismus ausgestattet, um eine sichere und gut verteilte Abscheidung zu gewährleisten. Das System wird durch eine integrierte Bypass-Strömungssteuerung zur Prozessgasverteilung weiter ausgebaut. Mit dieser Maschine können Anwender präzise Gasströme zur präzisen Abscheidungssteuerung erzeugen. Darüber hinaus umfasst das Tool ein erweitertes Echtzeit-Optimierungsmodul (RTO) zur In-situ-Prozesssteuerung und -optimierung. Dieses Modul wurde entwickelt, um die Prozessparameter in Echtzeit zu optimieren und präzise und genaue Abscheidungsergebnisse zu liefern. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I Reactor eine innovative und hochmoderne Halbleiterverarbeitung für die Abscheidung von dielektrischen und leitenden Filmen auf Wafersubstraten. Dieses Modell wurde entwickelt, um eine präzise Abscheidungssteuerung, eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Es ist auch entworfen, um präzise und genaue Abscheidungsergebnisse durch den Einsatz von speziellen Merkmalen und Prozessgasen zu gewährleisten.