Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9184826 zu verkaufen

ID: 9184826
Wafergröße: 8"
WCVD System, 8" WxZ (3) Chambers Main body ENI Generator rack Monitor rack System controller (4) Covers (2) Cables Mainframe: Centura I Phase I Chamber A: Type: WXZ RF Generator: OEM-12B RF Match: Phase IV Process kit: 200mm Heater: Ceramic Back side baratron: MKS 100T Purge MFC: AR 2000 Lid Assembly: STD Process baratron: MKS 100T MKS 1T Chamber B: Type: WXZ RF Generator: OEM-12B RF Match: Phase IV Process kit: 200mm JMF Heater: Ceramic Back side baratron: MKS 100T Purge MFC: AR 2000 Lid Assembly: STD Process baratron: MKS 100T MKS 1T Chamber D: Type: WXZ RF Generator: OEM-12B RF Match: Phase IV Heater: Ceramic Back side baratron: MKS 100T Purge MFC: AR 2000 Lid Assembly: STD Process baratron: MKS 100T MKS 1T Chamber E: Single cool Chamber F: Oriental Robot: HP Load lock: Wide body Gas box: CI No heat exchanger Umbilical length: CA Chamber A, B, C & D: 50 FT Gas configuration: Chamber A, B & D: WF6 / 200 WF6 / 50 C2F6 / 500 AR / 3000 O2 / 1000 SiH4 / 300 H2 / 500 H2 / 2000 N2 / 300 Control rack: Serial isolator System reset (2) Lk Det 1&2 / Conv/TC No floppy disk drive No hard disk drive Chamber interfaces: A, B, D & E Mainframe interface Loadlock interface Chamber A, B, D: DI/O 1&2 No chamber C: DI/O 1&2 Chamber E: DI/O Synergy SBC No controller, 486 V No APC VME Seriplex PCB SEI Chamber A, B, D: AI/O No chamber C AI/O Mainframe AI/O Chamber E/MF AI/O 2 (6) Mainframes DI/O (3) Steppers OMS.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I ist ein kompakter, hochvolumiger, hochleistungsfähiger CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für die ein- oder zweikammerige Abscheidung von dünnen Schichten aus verschiedenen Materialien ausgelegt ist. Der AMAT Centura I Reaktor ist als Einkammerausrüstung mit geschlossener Atmosphärendruckreaktorkammer ausgebildet. Angetrieben wird das System von einer leistungsstarken Induktionsheizung mit variabler Frequenz, die Temperaturen von bis zu 1.000 ° C erreichen kann. Die Metalldampf-Reaktionspartner werden durch die Oberseite in die Reaktionskammer eingebracht, während die Substrate von vorne be- und entladen werden. Angewandte Materialien Centura I Reaktor ist mit einem HF-Generator ausgestattet, der ein Mittel zur Steuerung des Prozesses in einer Vielzahl von Möglichkeiten bietet, einschließlich Leistungsregelung, Temperaturregelung, Reaktantendurchflussregelung und Reaktantengemischsteuerung. Die geschlossene Abscheidekammer wird unter Druck gesetzt, was eine Abscheidung von Submikrondünnschichten auf einer Reihe von Substraten, einschließlich Metallen und Halbleitern, ermöglicht. Darüber hinaus verfügt der Centura I-Reaktor über eine Spannungsversorgung mit variabler Frequenz, die eine präzise Steuerung des Prozesses ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS Die geschlossene Abscheidekammer des Centura I Reaktors wurde entwickelt, um die Verunreinigungsbelastung zu minimieren und bietet eine verbesserte Folienqualität. Die Vakuumkammer ist aus Quarz mit einer Aluminiumoxid-Auskleidung aufgebaut, die eine inerte Atmosphäre für den Abscheidungsprozess liefert. Das Gerät ist aus einem extrem langlebigen Edelstahl gefertigt, der eine Verschmutzung des Substrats verhindert und mit einem optischen Fenster zur Überwachung des Abscheideprozesses ausgestattet ist. AMAT Centura I ist eine kostengünstige, leistungsstarke CVD-Maschine, die eine zuverlässige Prozesskontrolle bei der Abscheidung hochwertiger Dünnschichten über eine breite Palette von Materialien liefert. Das einfach zu bedienende Werkzeug ist in der Lage, durchgehend dünne Folien mit ausgezeichneter Haltbarkeit und Zuverlässigkeit zu produzieren, was es zu einer beliebten Wahl sowohl für den Prototypenbau als auch für die industrielle Produktion macht.
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