Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura I #9184826 zu verkaufen
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ID: 9184826
Wafergröße: 8"
WCVD System, 8"
WxZ
(3) Chambers
Main body
ENI Generator rack
Monitor rack
System controller
(4) Covers
(2) Cables
Mainframe: Centura I Phase I
Chamber A:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber B:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Process kit: 200mm JMF
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber D:
Type: WXZ
RF Generator: OEM-12B
RF Match: Phase IV
Heater: Ceramic
Back side baratron: MKS 100T
Purge MFC: AR 2000
Lid Assembly: STD
Process baratron:
MKS 100T
MKS 1T
Chamber E: Single cool
Chamber F: Oriental
Robot: HP
Load lock: Wide body
Gas box: CI
No heat exchanger
Umbilical length:
CA Chamber A, B, C & D: 50 FT
Gas configuration:
Chamber A, B & D:
WF6 / 200
WF6 / 50
C2F6 / 500
AR / 3000
O2 / 1000
SiH4 / 300
H2 / 500
H2 / 2000
N2 / 300
Control rack:
Serial isolator
System reset
(2) Lk Det 1&2 / Conv/TC
No floppy disk drive
No hard disk drive
Chamber interfaces: A, B, D & E
Mainframe interface
Loadlock interface
Chamber A, B, D: DI/O 1&2
No chamber C: DI/O 1&2
Chamber E: DI/O
Synergy SBC
No controller, 486 V
No APC VME Seriplex PCB
SEI
Chamber A, B, D: AI/O
No chamber C AI/O
Mainframe AI/O
Chamber E/MF AI/O 2
(6) Mainframes DI/O
(3) Steppers
OMS.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura I ist ein kompakter, hochvolumiger, hochleistungsfähiger CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für die ein- oder zweikammerige Abscheidung von dünnen Schichten aus verschiedenen Materialien ausgelegt ist. Der AMAT Centura I Reaktor ist als Einkammerausrüstung mit geschlossener Atmosphärendruckreaktorkammer ausgebildet. Angetrieben wird das System von einer leistungsstarken Induktionsheizung mit variabler Frequenz, die Temperaturen von bis zu 1.000 ° C erreichen kann. Die Metalldampf-Reaktionspartner werden durch die Oberseite in die Reaktionskammer eingebracht, während die Substrate von vorne be- und entladen werden. Angewandte Materialien Centura I Reaktor ist mit einem HF-Generator ausgestattet, der ein Mittel zur Steuerung des Prozesses in einer Vielzahl von Möglichkeiten bietet, einschließlich Leistungsregelung, Temperaturregelung, Reaktantendurchflussregelung und Reaktantengemischsteuerung. Die geschlossene Abscheidekammer wird unter Druck gesetzt, was eine Abscheidung von Submikrondünnschichten auf einer Reihe von Substraten, einschließlich Metallen und Halbleitern, ermöglicht. Darüber hinaus verfügt der Centura I-Reaktor über eine Spannungsversorgung mit variabler Frequenz, die eine präzise Steuerung des Prozesses ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS Die geschlossene Abscheidekammer des Centura I Reaktors wurde entwickelt, um die Verunreinigungsbelastung zu minimieren und bietet eine verbesserte Folienqualität. Die Vakuumkammer ist aus Quarz mit einer Aluminiumoxid-Auskleidung aufgebaut, die eine inerte Atmosphäre für den Abscheidungsprozess liefert. Das Gerät ist aus einem extrem langlebigen Edelstahl gefertigt, der eine Verschmutzung des Substrats verhindert und mit einem optischen Fenster zur Überwachung des Abscheideprozesses ausgestattet ist. AMAT Centura I ist eine kostengünstige, leistungsstarke CVD-Maschine, die eine zuverlässige Prozesskontrolle bei der Abscheidung hochwertiger Dünnschichten über eine breite Palette von Materialien liefert. Das einfach zu bedienende Werkzeug ist in der Lage, durchgehend dünne Folien mit ausgezeichneter Haltbarkeit und Zuverlässigkeit zu produzieren, was es zu einer beliebten Wahl sowohl für den Prototypenbau als auch für die industrielle Produktion macht.
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